在全球半导体产业的版图中，芯片制造工艺犹如一座高峰，荷兰的ASML公司站在接近山巅的存在。凭借其先进的光刻机能够量产3nm芯片，引领着行业最前沿；反观我国目前量产精度大多停留在90nm，与之相比有着不小的差距。
3nm和90nm，这里面的差距不可谓不大。人们不禁想问:作为全球最大的芯片进口国、出口国，芯片代工大国，为什么国产光刻机只能生产90nm，而ASML光刻机却能生产3nm芯片呢？对此，我认为有四点可讲。
一，ASML光刻机起步早，投入巨额的研发资金，这是其他光刻机厂商难以媲美的
ASML之所以能在这一领域登峰造极，离不开长期且巨额的研发投入。自成立以来，ASML数十年如一日地将大量资金砸向技术研发，每年研发费用占营收比重长期维持在15% - 20%之间。
如此高比例持续投入，让科研团队得以不断攻克光学、机械、电子等多学科交叉难题，从光源系统到高精度镜头，从精密工作台到复杂的控制系统，每一个环节都在持续优化，这才打磨出能满足3nm芯片制造需求的极紫外光刻机（EUV）。
相比之下，我国半导体产业起步晚，资金积累薄弱，早年整体行业处于发展初期，难以像ASML那般集中海量资金专攻光刻机技术，研发投入受限直接延缓了技术突破的速度。
二，ASMK的技术积累和人才储备非常完善，而国产光刻机厂商在这方面比较欠缺
ASML身处半导体产业发达的欧洲，周边高校、科研机构林立，从基础物理研究到工程应用开发，有着深厚的人才土壤。而且，ASML通过多年项目实践，培养了一大批掌握光刻机核心技术的专家，他们经验丰富，代代传承，形成了强大的技术迭代能力。反观我国，半导体专业人才培养体系完善起来耗时良久，早期高端人才大量外流，本土企业在人才竞争上常处劣势，导致一些关键技术研发岗位人手不足，自主研发进程受阻。即便近年来情况好转，可技术积累的鸿沟仍需时间填补，新人才成长到独当一面同样需要大量实战磨砺。
三，ASML背靠荷兰和美方，光刻机产业链非常完善，这是国产光刻机厂商不具备的先决条件
国际产业生态与外部限制给国产光刻机发展蒙上阴影。半导体产业链早已全球化，ASML在发展过程中与全球数千家供应商紧密协作，从蔡司供应顶级镜头到美国提供关键光源技术，上下游协同配合默契。
然而，我国半导体产业却面临外部重重封锁。美方联合盟友对我国进行技术禁运，禁止向我国出口高端光刻机及相关核心零部件，试图将我国半导体产业锁在中低端水平。原本开放的国际合作大门对我国紧闭，国产光刻机企业只能被迫走上自主研发几乎所有零部件的艰难道路，这极大增加了技术攻关难度与时间成本，延缓了从90nm向更高精度迈进的步伐。
四，ASML具备先发优势，在全球市场享负盛名，其生产的光刻机不愁卖，形成良性循环
在全球芯片市场，ASML依托早期技术优势抢占先机，与台积电、三星等芯片制造巨头深度绑定，订单源源不断，强大的市场需求支撑其持续投入研发、扩大产能、降低成本。
而国产光刻机企业在市场开拓初期举步维艰，一方面国内芯片制造企业部分因成本、稳定性考量，对国产光刻机信心不足；另一方面，国际市场受政治因素干扰，国产设备很难打入，有限的市场份额难以回笼足够资金反哺研发，陷入恶性循环，让技术提升的脚步愈发沉重。
由此可见，在市场环境方面，ASML已经形成良性循环。而国产光刻机厂商的市场环境并不好，订单比较缺乏。
五，写在最后
通过上述分析可知，国产光刻机只能生产90nm芯片，而ASML光刻机能量产3nm芯片，我们只能用“无奈”来形容。
无奈的是我国光刻机发展起步早，资金投入还不够多；
无奈的是我国光刻机技术积累和人才储备还不强，受制于人；
无奈的是国产光刻机产业链不够完善，我们几乎是在独自前行；
无奈是国产光刻机市场环境并不好，没有形成良性循环；
不过我国光刻机产业发展迅猛，已经研制成功65nm分辨率的DUV光刻机。按照这种发展速度来看，国产光刻机生产28nm、14nm、甚至是7nm，我认为不是不可能。