光刻机是生产芯片的核心设备，因此光刻机越先进，芯片的工艺也就越先进。作为全球最领先的光刻机厂商，ASML生产的EUV光刻机能大规模量产7nm以下工艺的芯片，这就是先进光刻机带来的技术优势。
并且ASML生产的浸润式DUV光刻机也是遥遥领先，不仅可以大规模量产成熟工艺的芯片，也能量产7nm、5nm工艺的芯片。毫不夸张的讲，ASML就是光刻机市场的霸主，地位难以撼动。不过最近光刻机技术再次突破，EUV格局算是发生反转了。
ASML是全球最领先的光刻机厂商，其生产了全球100%的EUV光刻机，也生产了80%以上的DUV光刻机。但凡是芯片代工厂商，那么ASML的光刻机就是无法绕开的话题。
我国作为全球最大的芯片生产国、进口国，对ASML的光刻机设备有着非常迫切的需求。令人恼火的是美方为了维护自己在芯片产业的领先地位，限制ASML向中企出口先进光刻机设备，这导致我国芯片代工厂商工艺迟迟无法突破。
比如内地厂商中芯国际就从ASML采购了一台EUV光刻机，但因为美方的限制，荷兰相关部门并没有发售许可证，这导致中芯国际购买EUV光刻机的计划暂时搁置。
其实ASML也没有办法，因为美方掌握了光刻机产业链的话语权，牢牢的控制了光刻机专利技术、设备、材料。一旦美方对ASML进行断供，那么ASML的EUV光刻机很可能就生产不出来。
不过最近EUV光刻机市场发生了一件大事，那就是俄罗斯的EUV技术实现突破，这对ASML和美方而言是一个不小的打击。
据俄罗斯媒体报道，俄方的EUV光刻机技术实现了突破。俄方公布了最新的自主研发光刻机的路线图，通过最新的11.2nm的镭射光源，这种EUV光刻机的分辨率将提升20%左右。
对比ASML采用的13.5nm光源，俄方的EUV技术要更加先进。毕竟光源越短，分辨率越高，那么光刻机的工艺就越先进，生产出来的芯片就越先进。
虽然俄方只是公布EUV光刻机路线图，离生产EUV光刻机还有不小的差距。但光源、分辨率是EUV光刻机最难攻克的两大技术，俄方能够在这两个技术上实现突破，这对EUV光刻机的全球格局造成深远的影响。
可能有人会对俄方的EUV光刻机技术有所质疑，毕竟俄方的半导体产业链太拉胯了。在很多人心目中俄方的半导体产业远不如我国，更不要说和荷兰、美方相提并论了。
不过俄方是瘦死的骆驼比马大，其半导体技术底蕴非常深厚。要知道俄方解体前是全球大国，半导体技术并不逊色美方多少。解体后的俄方继承了很多半导体技术和科研人员。强如ASML也有很多科研人员都来自于俄方。
由此可见，俄方这次公布EUV光刻机路线图，并采用更先进的11.2nm镭射光源，这是没有疑问的。正因为如此，有外媒才表示:俄方EUV技术实现突破，全球EUV市场格局开始反转了，ASML将不再一家独大。