在科技企业的市值竞赛中，美国企业曾长期占据主导地位，苹果、微软、谷歌、亚马逊、meta及英伟达等六家巨头相继突破1万亿美元大关。然而，这一格局近日被一家亚洲企业——台积电所打破。
台积电市值破万亿美元
成首家市值突破1万亿美元的亚洲科技公司
美东时间10月17日，美股台积电盘中涨超13%，收涨9.79%，收盘时股价205.84美元/股，再创历史新高。总市值突破1万亿美元，达1.067万亿美元。据市值排行网CompaniesMarketCap统计，台积电当天的市值已超过巴菲特旗下的伯克希尔，成为全球第八大市值公司，仅次于苹果、英伟达、微软、谷歌、亚马逊、沙特阿美和Meta。同时，这是中概股首家市值站上万亿美元的公司，也是第1家市值突破万亿美元的亚洲科技公司。
台积电达成此壮举，主要是受到第三季度财报良好表现的刺激：10月17日，台积电发布2024年三季报，报告显示，公司第三季度净收入为7596.9亿元新台币，高出了市场预估的7510亿新台币，同比增长39.0%，环比增长12.8%，创历史新高；第三季度净利润3252.6亿元新台币，同样高出了市场预估的2993亿新台币，同比增长54.2%，环比增长31.2%。当季毛利率为57.8%。每股盈余为12.54元新台币，同比增长54.2%。
台积电预计第四季度收入261亿美元至269亿美元，超出市场预估的249.4亿美元；预计第四季度毛利率为57%至59%，而市场预估为54.7%；以美元计算，台积电预计2024年全年的销售额将增长近30%，比之前预计的20%左右的最高增长率大幅上升。
除了亮眼的业绩报告，作为全球高端芯片代工商，台积电几乎全数包揽了高端芯片，尤其AI芯片代工，成为AI供应链上举足轻重的玩家。加上高端芯片产能紧张，且有涨价预期，推动台积电股价频创新高。今年以来，按前复权价计算，台积电股价涨幅达100.09%。
潮籍“浸润式光刻之父”林本坚
台积电、asml称霸全球的最大功臣
资料显示，台积电（台湾积体电路制造股份有限公司，简称TSMC）成立于1987年，总部位于中国台湾新竹科学园区，是全球领先的半导体制造企业，也是全球首家专业集成电路制造服务企业，其首创了晶圆代工模式，为全球客户提供广泛的晶圆制造服务。
台积电以先进的半导体制程技术和高良率闻名，在7纳米以下的节点拥有全球超过90%的市场份额，尤其在5nm、3nm等先进工艺上，几乎垄断了全球市场。
从一家初创公司发展成为全球最大的晶圆代工企业，台积电的成功之路堪称芯片工业的风云史。然而很多人不知道的是，在台积电的发展过程中，有一位潮汕人贡献巨大，他以一己之力统帅全球光刻技术发展，是台积电、asml称霸全球的最大功臣，在半导体工业界有着举足轻重的地位。
曾经因为他的一个“疯狂点子”，让老大哥英特尔（Intel）及设备商艾斯摩尔（ASML）、尼康（Nikon）等业内巨头，舍弃耗费逾 10 亿美元和数年的研究心力，跟着他与台积电一起转弯；他改变了全球半导体产业技术路径，让全球半导体制程得以往下推进 6 到 7 个世代，约 14 年时光；他还让20年前还未“大大茁壮”的台积电，首度拿下新技术的发球权，一步步到今日跻身一线大厂、主导业界规格。
甚至，台积电创办人张忠谋曾说过，如果没有他和其带领的技术团队，台积电的光刻部门不会有今天的规模。
他叫林本坚，是半导体科学家、浸润式微影技术的发明者，他因此被誉为“浸润式光刻之父”。
一个“疯狂点子”改写了全球芯片制造格局
林本坚祖籍广东潮汕，1942年出生在越南，高三那年他以侨生的身份到台湾新竹中学念书，隔年考上台湾台大电机系。大学毕业后，林本坚到美国俄亥俄州立大学电机工程学系进行深造，并且获得了博士学位。
从大学一直到博士，林本坚的主要学习方向都是跟光学有关的技术。完成学业后，林本坚最开始想去柯达工作，但是投了多份简历没有回应，最后误打误撞进入 IBM，就此进入了半导体领域继续研究“光”技术，一干就是22年。
众所周知，“光刻”（或称微影）是半导体工艺中非常关键的一道程序，林本坚在光刻技术上面有着很强的技术引领性：在IBM，他参与了公司在1微米、0.75微米、0.5微米光刻微影技术的开发，入职后只用了5年的时间，他就做出当时光刻领域最短波长的光线——深紫外线（DEEP Ultra-Violet，简称DUV）。可以说，各大厂商的DUV光刻机，都有林本坚的技术在里面。后来开发的EUV光刻机，就是在此基础上进行的技术革新。
而实现技术革新的这个人，还是林本坚。
1992年，林本坚从IBM离职自己创业，成立了一家名为Linnovation的公司，发展与光刻相关的软件以及其他技术。但8年后，由于他创业公司的竞争对手被大公司收购，他无力与之竞争。恰在这时，台积电的蒋尚义打来电话邀请他加入台积电，于是2000年林本坚再次回到了台湾，入职了台积电。
林本坚入职台积电时，世界光刻行业正面临技术瓶颈：彼时，随着半导体制程往下演进，关键制程之一的微影，也得持续缩短光束波长。而一直以来，业界习惯以空气为媒介，即‘干式’的微影，但此技术却已‘撞墙’，在157 纳米波长卡关。
如果解决不了这个问题，那么全球的芯片制造业会陷入僵局。
这时候，林本坚跳脱框架，提出了一个“疯狂点子”：他认为 157 纳米光刻机技术的难度很难克服，建议“走回头路”用上一代 193 纳米波长的光刻技术，且破天荒改用“水”为介质，发展出‘浸润式微影’技术，让光束波长一举缩短至134 纳米，成功突破当时半导体大厂都束手无策的关键瓶颈。
然而，林本坚的这个“疯狂点子”一开始却在业内遭受到了巨大敌意，被众多的半导体大厂反对。
原来，当时大厂已经投入巨资在研发 157 纳米干式光刻机上，光是 ASML 就投入了超过 7 亿美元的研发费用。2000 年的 7 亿美元可不是小数目，逼近台积电一年的资本支出，如果技术大转弯，就等于是宣告大厂的研发费用都血本无归了，可以想像，当时的林本坚承受的压力之重。
一些反对的大厂也提出疑虑，认为以水为介质容易产生污染，且水中的气泡会影响光刻成果等，但林本坚不畏质疑，带领团队完成一篇篇的论文发表到国际期刊上，一一解答外界的疑虑。
一开始，林本坚拿着他开发的新技术，去找美国、德国等地区的大厂合作，但是没有人相信他。找日本、韩国合作，也都碰了壁。
好在，张忠谋和蒋尚义则是很看好林本坚的技术，在他们的大力支持下，林本坚终于有机会放手一博，经过无数研讨会努力奔走、寻找与设备商合作，最后，台积电在2004年与ASML共同完成开发全球第一台浸润式微影机台，由浸润式光刻机生产出来的产品，不但技术水平先进，而且市场反响也好，让业界在震惊之余也刮目相看，一步步获得国际大厂的认同。
后来，日商 Nikon也宣布加入浸润式光刻机生产，一年后，ASML 正式放弃原本 157 光刻机研发，加入生产 193 光刻机之列，并且与台积电共同研发，且 IBM 等十多家半导体厂也跟着转向，跟进采购 193 纳米光刻机。
此后，以林本坚为领导，asml和台积电两个团队开始并驾齐驱，将光刻技术的精度继续下探到90nm、65nm、40nm、28nm、16nm、10nm、7nm。浸没式光刻机在市场上面最终的技术水平是7nm，一直到5nm的手机芯片时代，才全面启用EUV光刻机进行制造，浸没式光刻机这才退出了技术发展的一线位置。
后来的情况大家应该都知道了，asml抢在所有同行前面生产出来了EUV光刻机，并且凭借着先进的设备在光刻机业务上面成为了老大，直接垄断了高端市场。
而台积电，也因为林本坚的技术和asml公司的设备，在晶圆代工行业上面独占大量市场份额。
可以看到，在全球光刻机技术发展最为关键的这几年当中，林本坚一直在引领行业的发展，他的技术思路直接改变了全球半导体产业技术路径，让全球半导体制程得以往下推进 6 到 7 个世代，以一己之力让各大厂商跟着他的脚步前进。
2015年，73岁的林本坚作为研发副总从台积电退休，台积电创始人张忠谋专程为他举行了庆祝活动。在晚会上，张忠谋特别表示：“假如没有你和你所建立的团队，台积电的微影（光刻技术）不会有今天这规模。”
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