散英魂寄千万雄鹰翱翔神州，
尽智魄载十亿慧芯呼唤华夏。
——《国务院给予江上舟同志挽联》
01
前沿导读
台积电前副总裁、浸润式光刻技术的发明人林本坚在一次访谈中说到：
美国的学生，他没有被家长逼着还是怎么样的，他去学的东西是他真正感兴趣的东西。不会在学习期间还需要恶补其他东西，所以他有很多时间去注意周围的事情，解决周围的问题，去追求他喜欢的这些东西。
这些美国孩子在念书的时候，他可以选择喜欢念的学科，不受社会压力、不受家长的压力。在国内，你念一个冷门的学科，大家会用异样的眼光看你，觉得你怎么怎么样。我想在美国，就没有这个问题。
02
林本坚的技术
林本坚的话并不是毫无章法地乱说一通，而是他亲身经历的事情。林本坚是浸润式光刻技术的发明人，也就是DUV光刻机技术的核心发明人。
他在13岁的时候，母亲送给他一台相机，于是林本坚便对光学领域产生了浓厚兴趣。他考上了台湾大学电机系，随后去到美国的俄亥俄州立大学，攻读到了电机工程系博士学位。
他在完成学业之后，给柯达公司递交简历，但是柯达没有回应。他来到了IBM公司，在IBM公司负责半导体的光学技术研发。
后来林本坚离职，蒋尚义邀请他加入台积电。于是林本坚从美国回到了台湾，加入了台积电。
在光刻机进入193nm的工艺之后，达到了技术瓶颈，无法再次向下发展。要么想办法降低曝光尺寸，要么想办法在制造的时候加入介质，缩短波长。
这时候，林本坚开创了一个新技术。
他将水作为介质，光线照射到水里面之后会产生折射，理论上来说，折射之后193nm的光线波长，可以缩短到134nm，这样就可以突破193nm的技术瓶颈。
这项新技术被命名为“浸润式微影技术”，林本坚拿着新技术找大企业合作，美国、德国、日本、韩国全部将他拒之门外。
日本的尼康曾经还联合美国硅谷团队，打算走之前的路线，降低曝光尺寸，强行突破技术瓶颈。但是这样一来，整个产业链都会被牵动，设备材料需要全部推倒重来，工程量巨大，尼康也不敢轻举妄动。
至于林本坚的新技术，尼康也是处于观望的态度，大企业都解决不了的问题，他一个台积电的员工能解决？
台积电内部相当看好林本坚的技术，在蒋尚义的帮助下，台积电找到了asml，两家企业进行了新技术合作。
一年以后，asml的浸润式光刻机宣布研发完成，并且投入生产线工作。而同期的尼康，刚刚完成了157nm光刻机的研发。
asml凭借着先进的技术设备，获得了国际巨头企业的认可，英特尔、三星、IBM等大企业纷纷采用asml的光刻机作为工厂的主要制造设备。
林本坚成为了这场技术发展的核心人物，他带领台积电和IBM的研发团队，继续向下发展，将浸润式光刻机的精度一路下探到7nm。直到极紫外线的EUV光刻机到来，才替换掉了林本坚开创的浸润式技术。
03
国内外的技术教育
林本坚可以成为全球光刻技术领域的突破人之一，得益于他从小对光学技术的兴趣，以此来支撑着他在光学领域不断的开创新技术。
曾经有官方媒体采访过林本坚，询问他如何看待现如今的中美科技展，中国大陆在未来能否赶超国际水平等话题。
林本坚回答道：
我觉得大陆这边是有很多很好的先天条件，第一就是有市场、有机会，只要你做得好，有机会做很多芯片，有量。然后是有人，有很多人才，有很多学校，这些都有了。但是你怎么样让他们觉得半导体很重要？因为现在的年轻人都要做很多别的事情，这些都是要去努力的。
他的意思说的很清楚，那就是国内有未来的人才，也有高水平的教育学府，但是这些学生和学校，对于半导体领域并没有太过于重视，还是希望在大学里面选择一些好就业的专业学习。
林本坚在采访中还提到了创新两个字，要保持好奇心，拥有创新的心态。在生活中遇到了困难，要积极想办法解决。如果你觉得这个问题很重要，自己有能力解决，那么你就要花点时间去解读它。
创新的过程中不要闭门造车，多吸纳一些其他人的好意见，跟别人一起讨论商量，彼此会看到大家的缺点，看到改进的地方。每个人看待问题的思路都不一样，将这些思路合并在一起，会是产生一个很有力量团队。
包括前段时间，长江存储的董事长陈南翔也说过，中国在发展集成电路的过程中，走了许多弯路。我们本来是打算发展产业，但是以往都把这种技术交给大学、研究院之类的科研单位进行发展，都将这个产品做成了一种学术性的东西。而现在谈的是整个产业，是做出来的产品，需要对以往的模式进行创新，要带来商业价值。
技术是要拿出来用的，不是拿出来写在本子上面纸上谈兵的。
往期经典回顾：10万+阅读量
往期经典回顾：100万+阅读量