【7月25日讯】相信大家都知道，在最近几年时间里，国产操作系统、国产半导体产业的发展都在不断提速，但由于系统、芯片这两大核心技术产业，并不是一朝一日投入就可以全面解决，而是需要持续不断的资金投入、人才培养等等，才能够让相关的产业链技术取得突飞猛进的突破，就在华为、中兴等国内科技巨头相继遭受到“断供”制裁后，也让国产芯片、国产操作系统如雨后春笋般的诞生，而就在近日，在中国山东青岛的芯片车间再次传来了好消息，由上海微电子研发的SMEE封装光刻机正式下线，并且目前已经进入到青岛新核芯科技的研发车间调试；
但就在国产半导体设备再次传来好消息后，似乎也再次传来了众多质疑声，而广大网友们最为关心的，还是这台SMEE封装光刻机能够达到多少nm精度？据悉，这台SMEE光刻机在多方共同见证下，目前已经正式搬入到青岛的芯片车间中，如果相关的设备调试顺利，预计在10月份就可以具备芯片生产制造能力，年产能可达到36万片晶圆，而工艺制程最高可达65nm，这也意味着相对于此前国产90nm工艺光刻机而言，这次国产光刻机工艺也是再上一个台阶，当然相对于目前市面上的高端光刻机设备，依旧还是有着不小的技术差距，但如今“中美科技战”愈演愈烈，无疑也是给国产半导体产业链提供了最佳的市场发展机遇，随着技术不断两变，相信我们很快就可以突破高端芯片制造技术，毕竟此前就已经确认，预计在今年底，上海微电子就可以正式交付首台28nm工艺制程国产光刻机，实现28nm工艺芯片纯国产化，在明年突破14nm工艺芯片纯国产化。
当然我们国内想要实现芯片制造产业链不受到限制，就意味着在半导体设备、原材料、芯片制造工艺等方面都需要依靠自己，所面临的挑战难度也是可想而知，毕竟就连全球芯片代工巨头—台积电，其半导体设备、半导体原材料都来自于全球各国，所以国内半导体产业在不断取得进步时，小编也希望网友们能够给予更多的支持和包容，即便这些产品技术再差，也是属于我们全体中国人的，不会受到任何西方国家技术限制，能够给予国产芯片在这几年时间所取得进步给予肯定，而不是每次都直接“泼冷水”，利用舆论来扼杀国产芯片、国产操作系统发展。
最后：针对国产SMEE光刻机工艺技术再次得到提升一事，各位小伙伴们，你们觉得我们凭借一国之力，是否能够突破高端芯片制造的技术瓶颈呢？欢迎在评论区中留言讨论，期待你们的精彩评论！