就在之前包括三星、SK 海力士等韩国存储器大厂开始启用EUV 光刻机 设备进行存储器的生产之后，现在美商美光科技准备也要加入采用EUV 光刻机 的生产行列了。 根据日前美光在财报会议上所说的，目前美光正跟EUV 光刻机 大厂ASML 展开采购谈判工作，预计2024 年将开始生产采用EUV 光刻机 所生产存储器。
根据美光科技总裁兼执行长Sanjay Mehrotra 在日前的财报会议上的说法，过去美光一直在关注EUV 光刻机用于生产上面的进展，而且实际上之前也参与了EUV 技术的生产发展。而在观察到EUV 光刻机及整个生态系统成熟之后，美光就开始会在产品规划中加入EUV 光刻机来进行存储器的生产。
而在本次财报会议上，美光也已经在2021 财年的的资本支出上略微提升到95 亿美元的金额，其中就是目前已经开始跟ASML 谈判购买EUV 光刻机的计划。不过，现在美光方面还没有公布细节。还有EUV 光刻机现阶段的供应吃紧，在晶圆代工大厂台积电、三星方面因为采购的数量较多，使得美光即便已经与ASML 完成采购谈判，要正式取得设备则还要等等。
事实上，目前是台湾地区投资金额最大的外商美光，当前最新的存储器生产技术并是不使用EUV 光刻机，而是采用上一代深紫外(DUV) 光刻机来生产存储器。而这对于目前领先全球市占率的韩国三星级SK 海力士两家存储器大厂来说，非常关注美光不使用EUV 光刻机成功开发出10 纳米级的DRAM。因为ASML 的EUV 光刻机每部造价高达1.5 亿美元，生产的存储器会有较高成本。但美光采用DUV 光刻机就能生产同等级存储器产品，产品成本较便宜，也较竞争力将更具优势。而根据美光的计划，EUV 光刻机预计要到2024 年才会导入，首发将会用于1-Gama 的10 纳米级制程存储器上，而后面还会进一步扩展到更下一代的1- Delta 的10 纳米级存储器生产中。