我想很多人都有一个共同的疑问，我国的芯片产业老是被卡脖子，其中重要的一环又在于高端的EUV光刻机只能进口，那么如果华为自己研究光刻机，有没有这个能力？假如仅仅是研究的话，肯定是没问题的，关键在于光刻机是多国科技的结晶体，仅凭华为一己之力，恐怕难以做出高端光刻机，但是如果能全行业合作一同研究，我相信肯定是可以自己做出光刻机来的。
一、我国的半导体产业受制于人
在当今全球的竞争中，科技变得越来越重要。人工智能被称为第四次工业革命，科技创新将成为未来各国竞争的关键因素，而在科技产业中，半导体又是底层支撑。
在半导体产业中，由芯片设计、晶圆代工和封装、测试四个环节组成，在芯片设计方面，我国在芯片设计环节有华为海思，紫光展锐等企业，在国际上已经具有明显的竞争力，在芯片封测这两个环节，则有长电、华天、通富等公司，在全球十大封测企业之列。
但在芯片的代工环节，确实与国际水平有一定的差距，目前中国国内最大的半导体晶圆代工企业是中芯国际，在2020年也只实现了14NM工业的量产，而台积电和三星已经实现了5NM工艺芯片的量产。
二、我国光刻机与ASML仍有明显差距
虽然中芯国际已经实现了14NM工艺芯片的量产，7NM也在研发中，但如果要想进行更进一步的工艺研发，就需要有极紫外EUV光刻机，而全球能够生产EUV光刻机的仅有荷兰ASML公司。
根据光刻机巨头ASML公布的2020年销售业绩，ASML公司在2020年全年营收达到139.78亿欧元，同比增长18%；净利润达35.92亿欧元，同比增长37%。2020年，ASML设备销售额为103亿欧元，其中EUV光刻系统销售再创新高，全年销售31台，销售额达45亿欧元，同比增长60%，占设备销售额的43%。
ASML公司在2020年达成了第100台EUV光刻系统交付的里程碑，却没有一台卖给我国，之前中芯国际已订购的一台EUV光刻机，也因为美国重重阻挡，一直未发货。到2020年底，全球有2600万片晶圆是经过ASML的EUV系统曝光的。
ASML研发的新一代光刻机已经可以生产3NM工艺的芯片，而国内能够研发光刻机的公司是上海微电子装备公司，当前该公司最先进的光刻机产品是600系列光刻机，SSX600系列光刻机最高能够实现90nm工艺制程，与国际水平差距依然是明显的。
三、行业合力必然可以实现光刻机国产化
光刻机技术其实本身并不是神造出来的，也是通过技术累积造就的，光刻机本身的技术并不难，难就难在EUV光刻机是多个国家的共同结晶。
虽然ASML生产出全球最先进的EUV光刻机，但并不是一家荷兰公司就能生产出来的，一台光刻机90%零件都是通过全球采购，当中涉及到4个国家十多家公司，台积电、三星和英特尔等等的客户又是ASML重要支持，这些公司都是捆绑在一起的，所以我们看到ASML生产出来的EUV光刻机不是卖给台积电，就是卖给三星。
光刻机不是靠一家公司就能制造出来，而是需要整合供应链以及下游客户，通过自身技术研发投入进行精准组装的产品。比如最关键零件之一，由德国蔡司生产的反射镜得做到史无前例的完美无瑕，瑕疵大小仅能以皮米（纳米的千分之一）计。
一台EUV光刻机重达180吨，超过10万个零件，需要40个集装箱运输，安装调试都要超过一年时间。
所以，如果仅凭华为一己之力，去研发生产光刻机，要生产出来的可能性很低。但是假如说，我国的科技企业都能认识到芯片不能受制于人，举全产业之力去共同研发，由国家相关科研机构牵头，产业链的所有公司共同去推动，那么肯定是可以做出自己的光刻机来的，只不过时间会长一点，但是一旦真正突破了，那么技术封锁便可迎刃而解。