光刻机是什么呢？是制造芯片的机器，而芯片是整个手机的心脏。
那光刻机的原理是什么呢？如同冲洗照片，但又有差异，可以说洗照片是把小的底片放大，但光刻机的是把大的底片缩小，也就是把电路图缩印到晶圆衬底上（类似相纸）。
那么，为什么由一个简单的原理制造的机器，门槛那么高呢？
精度，也就是加工的精度，由量变引发的质变才是光刻机的难处。
举个例子，给你一个电路图，如果要画到一张A4纸上很简单，如果要画到一张邮票上就困难一些，如果要画到一粒沙子上就更困难了。但如果把这个沙子放到一个赛车的挡风玻璃上，让你开另外一辆赛车，一边追一边画，还不能出错，就几乎不可能，虽然它们都叫一个名字—画电路图。所以光刻机也分低端和高端，10nm以下是高端的，你可以理解为笔的粗细，笔越细越高端，同样一粒沙子，笔越细画的东西就越多。
目前光刻机制程领域的最高工艺是5nm
，仅仅相当于50个原子的宽度。在这种极致的要求下，任何的细节被忽略都是一场很大的灾难。比如说振动，这种精度下，任何振动都极度的敏感；比如说关个门，结果可能都会灾难性的，所以必须要搭配一个极端精密的减震系统；再比如光源，它是画图用的，它必须频率稳定，能量均匀，平行度高，就像那个笔，它不能一会儿粗，一会儿细，一会儿没水了，一会跑歪了，任何曝光不准都会严重影响成像，所以它需要光束矫正器，能量控制系统一系列辅助设备；再比如掩模板，就是那个底片，在掩模台上运动控制精度必须nm级别，稍有偏差，成像就会有问题；再比如反光镜，它是引导光线的，精度以皮米计算，也就是万亿分之一米，如果反光镜的面积有整个德国那么大，那么最高的凸起不能超过一厘米；再比如透镜，它是把电路图按比例缩小的，如此庞大的体积，让光线穿过层层叠叠的镜片，多次折射不出偏差，最终达到nm级别的光刻精度，所以镜片的纯度、打磨难度和组装难度可想而知。
而在生产的过程当中，人类又成了最大的污染源，普通人每天要带一些10亿个皮肤微粒，所以
无尘车间的要求也同样极高
。在如此高难度之下，没有任何一家公司可以独立完成所有的环节。即使高端光刻机领域的绝对领先的阿斯麦ASML，核心优势也是在设计和组装校准，十多万个零件绝大部分都是外包。比如光源采用的是美国的Cymer，透镜是德国的蔡司，一个看似简单的原理，在超高精度的资源下，需要结合光学、材料、控制、电子、机械、化学等最顶尖的技术，才能最终完成这一人类历史上几乎最精密的机械。
目前全球光刻机领域的龙头老大是荷兰的ASML
，占领了80％的市场，日本的尼康和佳能已经被ASML完全击败，最先进的EUV光刻机只有ASML能够生产，大家所使用的的手机的处理器、电脑的CPU、大部分是ASML的光刻机制造出来的。当前荷兰ASML的7nm极紫外光刻机（EUV）已经非常成熟，市场上苹果A12处理器、华为麒麟980处理器，高通的骁龙855处理器和865处理器，均是由台积电使用ASML的7nm光刻机代工生产的，更有消息称ASML已经开始生产5nm制程的光刻机了。
阿斯麦的组件供应商
对我国而言，
一直以来都难以制造出最先进的光刻机
，这也成为了我国半导体行业永远的心病。为了获取最新的光刻机，我国中芯国际公司不惜砸下重金于2018年向ASML订购了两台光刻机，其中就包括一台EUV光刻机。然而直至今日，ASML公司也没有完成交付，有些人说是因为美国从中阻扰，而有些人则认为是荷兰政府不答应，总之说到底，我国要拥有光刻机的自主产权，才能彻底不受制于人。
实际上，我国也是一直在光刻机的发展上不断努力。目前，
我国最先进的光刻机制造厂商上海微电子装备公司——SMEE
，目前能够量产90nm的光刻机，但相比ASML光刻机的7nm工艺，90nm制程工艺显然是远远不够的，相比而言可以说是落后了十几年，欣慰的是，我国并没有放弃在光刻机领域的深耕。
上海微电子公司也在不断进步着，近年来，随着我国在半导体行业投入了大量资金，这些公司也逐渐发展了起来，而国产光刻机与荷兰顶级光刻机之间的差距也在慢慢的缩小。前段时间上海微电子厂更是传来了一个好消息，那就是我国已经能够紫外线光源，实现22nm分辨率的光刻机了。
这个消息意味着我国光刻机产业即将迎来曙光，一旦技术成熟，我国将能够实现越级生产出22nm光刻机。当然了，单凭一家企业是无法独立完成光刻机的制造的，对我国来说，光刻机的零部件还需从国外进口，光刻机的发展还是一个漫长的过程。
总而言之，虽然西方国家掌握了当前光刻机技术和供应链，但是随着我国在光刻机领域的不断投入，迟早会有弯道超车的一天。