金融界2025年5月17日消息，国家知识产权局信息显示，东莞高伟光学电子有限公司申请一项名为“一种等离子清洗装置及清洗方法”的专利，公开号CN119972657A，申请日期为2025年1月。
专利摘要显示，本发明公开了一种等离子清洗装置及清洗方法，等离子清洗装置包括底座、工件载板和护罩，底座的上端面设置有正电极板，正电极板的上端面设置有陶瓷板，陶瓷板的上端面设置有定位件，底座设置有抽真空管路；工件载板设置有多个定位槽以装载待清洗的基板，工件载板与陶瓷板之间的距离小于等于0.05mm；护罩连接有升降机构，护罩设置有负电极板，负电极板位于正电极板的上方，正电极板和负电极板位于封闭空间中。正电极板上设有陶瓷板作为覆盖，将放电方式改为介质放电模式，避免锡元素污染基板的金手指；采用先输入氧气对基板表面进行高效率化学反应的清洗，后通入氩气，对基板表面进行物理撞击，彻底去除表面氧化物的方式，清洁效果更好。
天眼查资料显示，东莞高伟光学电子有限公司，成立于2002年，位于东莞市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本43383.19万美元。通过天眼查大数据分析，东莞高伟光学电子有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目13次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息156条，此外企业还拥有行政许可82个。
本文源自：金融界
作者：情报员