光刻机，这个听起来高大上的名词，最近在各大新闻头条上频频出现。作为芯片制造的核心装备，它就像是芯片界的"印钞机"，谁掌握了最先
进的光刻机技术，谁就能在半导体行业中占据制高点。但你知道吗？在这个看似高不可攀的领域里，我们中国也在悄悄地发力，一步一个脚印地向前迈进。
说起光刻机，不得不提到四大巨头荷兰的ASML、日本的尼康和佳能，以及我们中国的上海微电子。但如果你仔细观察市场份额，就会发现一个有趣的现象ASML一家独大，占据了85%以上的市场；尼康和佳能加起来也就15%左右；而我们的上海微电子，份额几乎可以忽略不计。这是为什么呢？
原来ASML不仅垄断了最先进的EUV光刻机技术，在浸润式DUV领域也占据了95%的市场。剩下的5%是尼康的"一亩三分地"。而我们的上海微电子和日本的佳能，只能在低端光刻机市场上打打擦边球。
说到这里，可能有人会问"我们中国不是号称制造业大国吗？怎么在这么关键的领域就掉队了呢？"别着急，让我们来看看上海微电子的奋斗历程
。
2018年3月，上海微电子推出了SSA600型号的光刻机，分辨率达到90nm。这在当时已经是一个不小的突破了。但由于美国对关键技术和元件的封锁，我们的光刻机技术一直难以取得突破光刻机，这个听起来高大上的名词，最近在各大新闻头条上频频出现。作为芯片制造的核心装备，它就像是芯片界的"印钞机"，谁掌握了最先进的光刻机技术，谁就能在半导体行业中占据制高点。但你知道吗？在这个看似高不可攀的领域里，我们中国也在悄悄地发力，一步一个脚印地向前迈进。
说起光刻机，不得不提到四大巨头荷兰的ASML、日本的尼康和佳能，以及我们中国的上海微电子。但如果你仔细观察市场份额，就会发现一个有趣的现象ASML一家独大，占据了85%以上的市场；尼康和佳能加起来也就15%左右；而我们的上海微电子，份额几乎可以忽略不计。这是为什么呢？
原来ASML不仅垄断了最先进的EUV光刻机技术，在浸润式DUV领域也占据了95%的市场。剩下的5%是尼康的"一亩三分地"。而我们的上海微电子和日本的佳能，只能在低端光刻机市场上打打擦边球。
说到这里，可能有人会问"我们中国不是号称制造业大国吗？怎么在这么关键的领域就掉队了呢？"别着急，让我们来看看上海微电子的奋斗历程。
2018年3月，上海微电子推出了SSA600型号的光刻机，分辨率达到90nm。这在当时已经是一个不小的突破了。但由于美国对关键技术和元件的封锁，我们的光刻机技术一直难以取得突破『ix4u.cn}ζwww.toyouta.cn┎性进展。
就在大家都以为我们要在90nm这个级别上"躺平"的时候，工信部最近发布的一份资料让人眼前一亮。我们有了两台新的光刻机！其中一台是氟化氪光刻机，使用248nm波长的照明光源，分辨率小于等于110nm。虽然这台机器还不算是真正的DUV光刻机（DUV需要使用193nm波长），但已经是一个不小
的进步了。
『acwx.cn}｜57488.com.cn}更让人兴奋的是另一台氟化氩光刻机。它使用193nm波长的照明光源，分辨率小于等于65nm，套刻精度小于等于8nm。这可是实打实的技术突破啊！从90nm到65nm，看似只是一小步，但对我们国产光刻机来却是一个巨大的飞跃。
有人可能会问"套刻精度8nm，是不是意味着我们可以制造8nm的芯片了？"别高兴得太早，这里『86fishing.com.cn}ζwww.ppkft.cn┎面还有一些技术细节需要解释一下。
套刻精度其实是用于多重曝光的。随着芯片电路越来越复杂，有时候一次曝光搞不定，就需要把一个图案拆分成好几个，分多次曝光。每次曝光之间的误差，就是所谓的套刻精度。套刻精度越小，就意味着可以进行更多次
的曝光，制造出更精细的芯片。
但套刻精度并不直接等同于芯片制程。举个例子，ASM『pielue.cn}｜bwghost.cn}L在2013年发布的NXT1950浸没式光刻机，套刻精度是5.5nm，但它最终能生产的是28nm芯片。而我们这台新的氟化氩光刻机，还不是浸润式的，只是一台干式光刻机。理论上，这种光刻机的极限就是65nm，想要制造28nm的芯片都有点悬，更别说8nm了。
这依然是一个巨大的进步。我们终于突破了美国的技术封锁，从『hg5777.cn}ζwww.moneynet.com.cn┎90nm跨进到了65nm。这就像是从"自行车"升级到了"电动车"，虽然还比不上"汽车"，但已经是质的飞跃了。
回顾历史，我们会发现，光刻机技术的发展一直是一个艰难的过程。上世纪70年代，美国的Perkin-Elmer公司率先开发出了第一台商用光刻机
。到了80年代，日本企业异军突起，尼康和佳能迅速崛起，一度占据『longsheying.cn}｜hentaifan.cn}了全球光刻机市场的80%以上。
但到了90年代末，荷兰的ASML凭借着创新的技术和商业模式，开始逐渐超越日本企业。特别是在2000年代初，ASML成功开发出了浸润式光刻技术，彻底奠定了其在行业中的领导地位。
而我们中国，直到2002年才开始研发光刻机，可以说是起步较晚。但正所谓"后发优势"，我们可以借鉴前人『boenshi.com.cn}ζwww.hvwt.com.cn┎的经验，避开一些弯路。上海微电子的成立，就是我们国家在光刻机领域奋起直追的重要一步。
从2002年到2018年，上海微电子用了16年时间，终于推出了90nm级别的光刻机。而这一次，我们只用了6年，就实现了从90nm到65nm的跨越。这个速度，已经超出了很多人的预期。
我们也要清醒地认识到，我们和世界先进水平『cecity.com.cn}｜30zuoyou.cn}之间还有很大的差距。ASML早在2006年就推出了65nm级别的光刻机，而现在最先进的EUV光刻机，已经可以制造3nm甚至2nm的芯片了。
但我们不能因为差距大就放弃。正如那句老话说的"千里之行，始于足下。"我们现在迈出的每一步，都是为了未来的大跨越做准备。
如果我们能够持续保持这样的进步速度，也许再过几年『51wgo.cn}ζwww.333012.cn┎，我们就能研发出浸润式光刻机。再过十年八年，说不定我们就能有自己的EUV光刻机了。到那时，我们在半导体领域的话语权，将会大大增强。
现在我们已经看到了希望。我们的科研人员正在日以继夜地工作，为的就是早日实现光刻机技术的自主可控。每一个小小的突破，都是他们付出汗水和智慧的结晶。
下次当你听到"光刻机"这个词时『scsfz.cn}｜westfive.cn}，别觉得遥不可及。因为在这个看似高不可攀的领域里，我们中国正在悄悄地崛起。虽然道路还很长，但只要我们坚持不懈，终有一天，我们也能在这个领域中占有一席之地。
我们的光刻机技术，也不可能一蹴而就。但只要我们保持这种"工匠精神"，不断积累、不断创新，我们终将迎来属于自己的"芯"时代。让我们一起为中国的科技发展加油吧！