俄罗斯已经成功制造了其首台光刻机，并且目前正处于测试阶段。这对俄罗斯的芯片制造业具有重要意义。
1.俄罗斯新研发的光刻机在技术上并不高超。
光刻机是一个广泛的技术领域，而大家通常只关注到了最高端的EUV光刻机，也就是极紫外线光刻机。实际上，中国在中低端光刻机方面也有着不俗的研发和生产能力。早在2007年，上海微电子就成功制造出了90纳米工艺的光刻机。如果我们追溯历史，会发现中国科学院半导体所在1981年就研制出了JK-1型半自动接近式光刻机，这是中国首台能够生产纳米级芯片的光刻机。而且，早在1971年，清华大学的徐端颐教授就成功研发了中国的第一台光刻机。这么看来，俄罗斯在光刻机领域的起步比中国晚了许多年。
2.俄罗斯这款350纳米工艺的光刻机已经能满足其大部分需求。
虽然台积电和三星使用ASML的EUV光刻技术可以生产出极其精细的3纳米甚至2纳米芯片，但这并不意味着俄罗斯的技术落后。350纳米工艺的光刻机对于制造许多类型的芯片已经足够，特别是在汽车安全气囊系统、制动系统、中控显示、车灯调节控制、发动机控制、LED环境灯光、自动驾驶系统、空调系统、电子电气系统等领域。此外，该技术在智能家居领域的应用也非常广泛。
3.俄罗斯光刻机的成本低廉。
俄罗斯制造的这台光刻机成本仅为500万卢布，折合人民币约36.74万元，这个价格远远低于荷兰ASML公司生产的EUV光刻机，后者的售价高达数亿美元或数十亿欧元。
4.对于军事用途来说，俄罗斯的新光刻机完全可以胜任。
军用芯片的关键在于能够在极端环境下稳定运行，而不是追求最新的工艺。例如，美国的F-22战斗机使用的芯片是90纳米工艺，“毅力”号火星车使用的CPU则是250纳米工艺。因此，俄罗斯新光刻机的350纳米工艺在军事领域是有一定竞争力的。
5.在过去，俄罗斯军用芯片主要依赖进口和老旧技术。
俄罗斯以前的军用电子设备很多是基于小型电子管设计的，这样的设计在极端环境下确实更可靠，但是技术更新慢且计算能力有限。相比之下，西方国家早已在战斗机等先进装备上使用晶体管和集成电路替代了电子管。
