据塔斯社报道，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长 Vasily Shpak 表示，该设备可确保生产 350 纳米工艺的芯片。

Shpak 表示，“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在 2026 年制造可以支持 130nm 工艺的光刻机。

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据悉，350 纳米工艺的芯片现在仍然可以应用于汽车、能源和电信等多个行业。

俄罗斯在光刻机领域的发展引起了国际社会的关注。俄罗斯拥有自己的晶圆生产线，其中包括8英寸和6英寸晶圆生产线，技术水平主要为上世纪90年代至本世纪初。

同时，俄罗斯计划在2024年开始生产350nm光刻机，并在2026年启动用于生产130nm制程芯片的光刻机设备。

光刻机是一种用于半导体制造过程中的精密设备，它利用光刻技术在硅片上制造微型电路图案。光刻机是半导体制造中最关键的设备之一，它直接影响到芯片的性能和产量。

光刻机是半导体制造中的关键设备，它的性能直接影响到芯片的性能和产量。随着半导体技术的不断发展，光刻机也在不断升级和改进，以满足更高性能芯片的制造需求。

这些信息表明，尽管面临技术和市场的挑战，俄罗斯正在积极发展自己的光刻机技术，以减少对外国技术的依赖，并提升国内半导体产业的竞争力。