金融界4月15日消息，有投资者在互动平台向国林科技提问：董秘您好，多重曝光技术拉动薄膜沉积设备需求，公司目前的薄膜沉积领域的设备，是否可以满足7纳米制程以下的半导体设备需求？

公司回答表示：公司目前在薄膜沉积领域的臭氧专用设备，可以满足7纳米制程以下的半导体设备需求。

本文源自金融界AI电报