全球第一的光刻机巨头，荷兰ASML，如今正面临着巨大的压力，因为他的利润蛋糕正面临着被掀桌的风险。
日前，日本老牌光刻机厂佳能推出了全新技术路线的纳米压印设备，全球独一份，甚至能生产目前最顶尖的2nm芯片，直接打掉了EUV光刻机的生存空间，让ASML始料未及。
日本佳能的“黑科技”
纳米压印技术是一种先进的纳米加工技术，用于在纳米尺度上通过压力施加和控制，制造出各种纳米结构和纳米器件。
它是一种高分辨率、高精度的加工方法，常用于纳米电子、光子学、材料科学等领域。
纳米压印技术的基本原理是通过将硅胶或类似材料制成模具，然后将模具与待加工的材料接触，施加压力使其产生变形，从而在材料表面形成所需的纳米结构。
这种技术可以制造出各种形状和尺寸的纳米结构，如纳米线、纳米点阵、纳米孔洞等——也能用于精密芯片的制造。
NIL纳米压印光刻机技术是日本半导体企业尼康、佳能推进的技术，含美量一直为“0”，和EUV光刻机相比能耗低、成本低、污染小。
难能可贵的是它不受FDP规则影响，不用看拜登脸色，无需申请就可向大陆出货。
日前佳能最新的半导体设备就宣布，在改进掩膜之后，将可制造2nm芯片。
于是乎，日本厂商一出手，诸多半导体公司赶来询问。
其中也包括不少因为美芯制裁而无法获得EUV光刻机的中国企业，一场全球芯片格局的大洗牌开始了。
ASML面临着巨大压力
ASML在全球范围内拥有广泛的客户群体，并与全球顶尖的芯片制造商合作，如英特尔、三星、台积电等。
公司不仅提供先进的光刻机设备，还提供技术咨询、培训和售后服务，以确保客户能够充分利用ASML的技术和设备优势。
但过于依赖美国技术，受制于拜登团队，也让ASML错失了芯片的发展良机。
尤其是纳米压印技术横空出世后，现在ASML的领导地位却遭遇了巨大的挑战。
不只是日本，在拜登团队挑起的全球科技竞赛中，中国也正在努力，打破了荷兰的垄断地位。
如今光刻机零部件、软件和核心材料这三个领域的国产化困难都被一步步攻克，在日本，在中国，ASML被取代的可能性变得越来越大。