昨天介绍了DUV光源的“双腔同步全固化激光电源”，大家见过它长什么样子吗？
大家可以看到， 上面这张《我是中国芯》的剧照，左上角有几个钢瓶，钢瓶前面是一台普通的光纤激光机。
这种光纤激光打标机的电路板，和上面剧照里的电路板很类似。那么DUV光刻激光的电源控制板是什么样子的呢？我们今天就来看一下。
我们还是看看上一篇提到的安徽光机所完成的我国02专项的DUV“双腔同步全固化激光电源”。负责这项技术攻关的是安徽光机所研究员方晓东。
2020年7月7日，安徽光机所主页刊登文章《安光所获安徽省2019年度技术发明一等奖》，其中提到，2020年6月29日，安徽省科学技术奖颁奖大会在合肥召开，“面向半导体集成电路光刻的准分子激光激励源技术及应用”的安光所方晓东准分子激光团队获得安徽省2019年度技术发明一等奖！
报道提到一个非常准确的信息：
成功研制了4kHz全固化脉冲放电激励系统并应用于首台国产90nm光刻机光源！
在2019年度安徽省科学技术奖提名项目公示资料里，也介绍了方晓东团队的项目《高性能准分子激光激励源技术和能量稳定控制技术及应用》。
这个获奖项目的成果包括了多个方面，其中第一项便是“高重频全固化脉冲放电激励技术”，其指标如下：
4kHz高重频运行下的放电峰值电压达到20.2kV, 脉冲上升时间61.7ns，运行寿命提高3个数量级，突破了准分子激光器高重频和长寿命工作的技术瓶颈。
这项技术由国家科技重大专项专家组现场测试与验收。
方晓东团队研制的DUV光刻电源获得了良好的用户反映，并用于193纳米ArF光刻光源的产业化开发：
北京科益虹源光电技术有限公司基于中国科学院合肥物质科学研究院承担完成的“20W 4kHz ArF曝光光源研发”整体技术开展ArF曝光光源产品化研发及产业化推广工作，公司应用该技术申请获批国家科技重大专项等项目持续支持，并实现ArF曝光光源产品销售。
这是中科院安徽光机所主页上方晓东团队获奖项目的照片。
2019年4月，方晓东研究员发表的文章《全固态高压脉冲电源在半导体光刻光源中的应用》，便回顾了这个领域的发展以及中科院安徽光机所的研究工作。
这篇文章里介绍了我们之前说过的美国Cymer的双腔全固态脉冲电源系统，以及Cymer在2000年将全固态脉冲电源系统用于放电等离子体EUV光源技术的开发。
之后，文章介绍了方晓东团队开发的双腔全固态脉冲电源，下图就是获奖项目的电源电路图。
方晓东的论文展示了准分子激光4kHz双腔固态电源的工作能力--它奠定了DUV光刻光源的工作基础之一。
方晓东团队开发DUV光刻光源的电源系统的研发人员都是谁呢？团队开发这个项目又有多少有趣的故事呢？我们下篇接着聊！
参考资料
中国科学院安徽光学精密机械研究所 (cas.cn)：http://www.aiofm.cas.cn/2022anguangsuo9/2022_xwzhongxin/2022_zhxinweng/202203/t20220318_687203.html