编者按：ASML即将推出的2纳米EUV光刻机，也可以叫做第二代EUV光刻机，它的基本特征是配备高数值孔径--0.55NA EUV光学系统。预计2纳米EUV光刻机将搭载500W以上的EUV光源。
通常我们把ASML在2010年左右推出的EUV光刻机叫做第一代EUV光刻机，它的基本特征是采用数值孔径NA0.33的EUV反射光学系统的光刻平台NXE。
EUV光源
我们知道，为了进一步提升EUV光刻机的分辨率，适应下一代2纳米以下芯片制程的要求，ASML已经推出高数值孔径NA0.55的光刻机平台EXE。
目前第一代EUV光刻机NXE平台型号已经升级到3600D，而即将推出的第二代EUV光刻机EXE平台的试产型号是5000，量产型号是5200。最近ASML公布的EXE平台的EUV光源进展，我们一起来看一下。
EXE平台的EUV光源发生器模块
EXE系统的EUV光源发生器安装调整
首先，第二代EXE系统的EUV光源的安装位置进行了重大调整。
如下图所示，第一代NXE系统的EUV光源发生器部分安装在底部，比EUV光学系统要低，所以EUV光是斜向上进入EUV光学系统的。
而第二代EXE系统，为了让光源和NA0.55光学系统匹配，将EUV发生器安装位置升高了3米，并且进行了旋转，这样调整使得EUV光将水平进入光学系统。
EXE系统的EUV光源发生器的结构优化和更新
下图展示的是EXE平台光源发生器的整体结构，其中黄色标记的部分是从NXE系统继承来的；天蓝色标记的部分是EXE平台引进、被NXE系统采用的；深蓝色的部分就是EXE平台的新模块：
1，Horizontal Focus Unit，这是EUV光源的水平聚焦模块；
2，New Frames with Isolation，这是安装EUV发生器的隔离框架；
3，External Tin Bucket，这是给EUV发生器补充Sn源的模块。
下一代EUV光刻机的光源系统已经就位
目前ASML有三套EXE系统的光源发生器模块完成集成：其中有2个位于ASML荷兰Veldhoven的工厂，另一个位于美国加州Cymer的工程测试车间。
因此，下一代EUV光刻机光源系统已经整装待发。
我们知道，EUV光刻机有两大最复杂的模块：EUV光源，EUV光学系统。从ASML最新资料来看，第二代EXE平台的EUV光源的整体构架和核心技术都来自第一代EUV光源，因此其工程难度相对而言大幅度降低。那么EXE平台的EUV光学系统的进展如何呢？我们下次聊！