光刻机有多重要，相信关注半导体产业的人都是清楚的。
目前光刻机技术最牛的厂商是荷兰的ASML，尤其是制造7nm及以下芯片的EUV光刻机，全球仅ASML一家在制造，可以说ASML卡住了全球所有先进芯片厂的脖子。
这么重要的设备，当然全球所有的企业都会努力去研发，以期打破垄断的同时，还获得利益，以及获得品牌价值。
但近日，有网友表示，从当前的消息来看，全球似乎只有中国在努力的研发光刻机，难道其它国家不需要光刻机的？或者是其它国家觉得自己没能力研发光刻机，所以放弃了？只有中国工业体系健全，所以必须自研光刻机出来。
事实上，网友的感觉不对，目前并不是只有中国在努力的研发光刻机，像美国、日本、中国、欧洲都在努力的研发光刻机。
美国前段时间就有企业用EBL电子束技术，研发出了能制造0.768nm芯片的光刻机呢，并且这种光刻机还能量产，周期只需要6个月就能交货。
而日本的佳能、尼康本来就是光刻机企业，研发各种光刻机。而佳能更是押注NIL纳米压印技术，在2021年就推出了NIL光刻机，被铠侠用于NAND闪存制造中，佳能希望用NIL技术，来替代EUV技术，申请了全球最多的NIL专利。
欧洲、美国还在研发自组装（DSA）光刻技术，比如比利时微电子中心、麻省理工学院，他们都建立了自组装产线，进行研究，也申请了众多的专利。
可见，并不是只有中国才研发光刻机，其它国家一样在努力，只是很多人并没有看到而已。
而中国也在努力的研发光刻机，相反大家在被认为可能取代EUV的光刻机技术上，表现其实还不太突出，有网友更是犀利的表示，中国在这三大有可能取代EUV光刻机的技术上，又已经落后了。
网友们之所以以为只有中国在努力，那是因为对行业了解的并不够，就像井中的青蛙，以为自己看到的那个井口就是天，实际跳出井之后，才会发现外面有一个更大的世界。