俗话说“人怕出名猪怕壮”，中国的发展速度在全球让各个国家震惊，以至于造成如果不加以限制的话很快就能超越所有对手的局势。如此情况美国自然不会放任不管，开始对中国的尖端技术进行打击和封锁，比如行动非常之大的芯片技术禁令只是刚刚开始。
在国内失去先进芯片的购入渠道之后，自然开始全力发展自身的芯片制造工业，然而就在芯片还没跟上世界脚步的同时，中国最大的光刻机企业也被封杀了，也许这个时候国产芯片才开始面临最艰难的时刻。
一、中国自己发明的光刻机
随着2019年美国开始对华为芯片进行限制，就已经意味着全球的芯片行业将会发生不可预计的变化。到了2020年美国开始正式对华进行芯片封锁计划，也就是在那一年开始许多人民知道了光刻机的重要性，也知道了光刻机的研究难度。可是有谁又能想到国内的光刻机技术发展曾经还处于世界领先地位。
在1966年的时候，国内的上海光学仪器厂就和一零九厂共同研制出国内历史上第一台光刻机——65型接触式。并且到了1985年的时候又成功研究出了国内的第一台分布式光刻机，名字叫做BG-101。凭借这台光刻机的技术已经足以和国际顶尖光刻机技术相比较，因为中间的差距最多只有十几年的时间。
而且那个时候国内涌现了许多半导体产业的人才，比如赵伟国、任志军、刘卫东、虞仁荣等都是清华大学无线电的新生，如今这些人大部分都成为了国内半导体行业内的重要人物。所以说国内的半导体和光刻机行业并不是完全零经验。
问题就在于1966年的时候全球三十多个国家共同签署了“瓦森纳协定”，内容就是如果对中国出售半导体相关产品，只能出售相比国际顶尖技术最少落后两代的设备。国外对中国半导体技术的停滞从20世纪末就已经开始，那时候国内经济发展中心也不在半导体上，国内的半导体技术自然开始与世界顶尖技术差距越来越大。
二、中国最先进的光刻机企业被“封杀”
回到当下，中国其实也能够生产一定程度的光刻机，比如上海微电子生产的光刻机制程工艺已经可以达到90nm左右，虽然还远远比不上顶尖的光刻机技术，但是对于国内的中低端芯片来说有很重要的作用，还能支撑下游芯片需求的供应。
然而美国商务部又再次发布了一些通告：美国将进一步打击中国半导体行业的发展，宣布将三十多家中国的科技企业纳入美国出口管制名单，其中就有上海微电子。这条限制令的关键点在于，上海微电子自主研发的光刻机有部分零件仍然是从美国MKS等企业进口的，这些零件国内很难独自研发出来。
所以这下不仅断了中国未来光刻机的发展之路，连现有的光刻机发展也会遭到限制打击。上海微电子使用的进口零件存在很高的技术，即便集中所有资源也很难在短期内找出其它技术来替代，所以才会说中国芯片的发展现在可能才迎来最艰难的时刻。
三、中国光刻机发展之路
上海微电子是国内具有很大期望的光刻机企业，在2020年的时候上海微电子就已经表示在未来2021-2022年的时候可以交付一台28nm的光刻机，然而由于各种原因到现在还未实现，随着上海微电子被封杀，可能短期内也难以推出。
ASML是当下世界中光刻机技术最发达的企业，其生产的光刻机有十多万的零件组成，这些零件更是来自于全球多个国家，就像ASML所说的：即便把图纸交给我国，也难以生产出来光刻机。但是这不代表ASML不欣赏上海微电子，ASML曾经表示：如果再给上海微电子5年的时间，光刻机的核心科技可能就会被其掌握。
除此之外，国内还有其它新型的方法来实现高端光刻机的操作，比如ArF光刻胶、光子芯片、叠芯等。而且通富微电也通过绕开光刻机实现了5nm的芯片生产，只是还存在一定的缺陷。
总结
未来一定是互联网和智能产品的天下，而发展基础就是依赖芯片等高科技产品，所以在中国受到技术封锁卡脖子之后，许多其它国家都开始投入大量的资金来研发自己的技术，为的就是防止步入中国的后尘。但是相信我国在明白需要放弃任何幻想之后，也一定能走出自己的道路。
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