不吹牛的说，市面上存在的东西就没有我们造不出来的，荷兰人这句话说得有点过了，而且荷兰人已经被打脸了。
白手起家制造原子弹
很多人认为制造光刻机比制造原子弹要难得多，导致越来越多的人认为原子弹很容易制造的假象，其实绝非如此，中国第一颗原子弹耗费了大量的人力、物力、财力。
1955年，新中国成立几年时间，科技实力和经济水平十分的薄弱，但是没有阻挡住中国人制造原子弹的决心。
中国的原子弹工程又称“596计划”，因为在1959年6月苏联单方面撕毁中苏国防新技术的协定，并撤走了专家，带走了设备和图纸，为了纪念这个艰苦的岁月，命名为“596计划”。
原子弹是一个庞大的系统工程，包括科研、设计、制造、生产、试验等许多环节，参与的人数也达到了30万，除了钱学森、邓稼先等科学家外，还有数万名技术工作者、工程师、民兵、工人和后勤人员等。
制造原子弹最为关键的就是原材料—铀
铀是原材料必须的材料，技术和原料都是高度机密，而且铀十分昂贵，当时1公斤铀价值1500万美元。而当时中国GDP仅为900亿人民币。
第一步就是出动地质队，全国各地、深山老林中寻找铀矿，经过不懈的努力，最后终于在华中地区探测到了铀矿。
随后由工程师、技术人员、工人等组成的0万人的庞大队伍，开始开采铀矿，按照一枚原子弹需要15公斤铀计算，就要开采出3000吨高品质铀矿。
10万人用了10年的时间，终于制造出了2块铀坯。
铀坯制造出后，还需要加工，以当时的设备和技术，制造工艺绝不亚于现在生产芯片的难度。
加工过程由3人操作：
第一人主刀：每车一刀，厚度仅有头发丝的十分之一。
第二人为监护：提醒主刀操作，同时及时拾起他车下的铀屑，防止其积聚在切削盘内，引起裂变链式反应。
第三人负责测量，主刀每车三刀，他就要测量一次，看看还差多少，还要车多少刀。
当时的领导说了一句话，让所有人都紧张起来了，他说：同志们，铀-235铸件只有两套，一个都不能有任何的损坏。这是我们的命根子，比我们的生命还重要。
主刀叫原公浦，他以精湛的技术，完成了使命，被称为“原三刀”。
车工完毕后，还有很多的工作要做。
10个核效应大队（科研、总后、海、陆、空、装甲、防化、铁道、工程、炮）需要在试验现场布置好楼房、车站、汽车、火车、飞机、坦克等各种效应物。
而爆炸后，还需要进行测试，需要有一批“敢死队”进入蘑菇云进行采样。
就是在极端艰苦的条件下，在百废待兴的时刻，几十万人用智慧、奉献、甚至鲜血制造出了新中国第一颗原子弹。
单从技术和精确度来看，光刻机似乎比原子弹更难制造
光刻机又名曝光机，是生产大规模集成电路的关键设备，将电路结构临时"复制"到涂有光刻胶硅片上的过程，制造和维护需要高度的光学和精密制造技术。
高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大，全世界只有少数几家公司能制造。
目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML生产的EUV光刻机，这台光刻机可以生产出最先进的5nm制程芯片。
这台光刻机仅零部件就超过了十万个，螺栓数量超过4万个，3000多条线路，内部软管加起来，就有两公里长，设备重量达到了180吨，如此庞大精密的设备安装调试就需要几个月。
设备最精密的部件就是：镜头和光源
镜头：采用了德国蔡司镜头
蔡司是德国著名的光学仪器厂商，蔡司镜头历史悠久，品质优良，成为了行业中“高贵”的代名词，公司对镜头质量要求非常高。
一个镜片，如果工艺不同人打磨，光洁度相差十倍。因此，很多人在一个岗位上一干就是几十年，拥有几十年的技术和经验。
EUV光刻机采用的镜头要求：制作一个地球面积大小的镜头，误差在一根头发大小。
光源：采用了美国Cymer公司极紫外光
极紫外光是一种波长极短的光（仅为13nm），它是通过激光在特殊技术下产生的等离子源。
这种光源工作在真空环境下，产生紫外波长，然后由光学聚焦形成光束，光束经由用于扫描图形的反射掩膜版反射，由于极紫外光的固有特性，产生极紫外光的方式十分低效，能源转换效率只有 0.02% 左右。
除了镜头和光源外，工作环境也很重要
精密工作台，工作台要求：绝对稳定的工作环境，芯片的曝光必须在真空中，并且采取恒温技术，工作室的空气要比外界干净1万倍，工作台高速运动期间，系统不能振动。而光刻机要多的事情，就好比在真空、恒温、无尘、高速运动的环境中，在一粒米上雕刻清明上河图，机械动作误差为皮秒（百万分之一秒），这些基本都是挑战人类极限的工作。
这就是世界上最先进的光刻机—荷兰ASML公司的EUV光刻机，价格约为1.6亿欧元每台，折合人民币约12.5亿元，关键是有钱还不一定能够买到。
我国已经拥有光刻机，而且经济实力和技术实力大幅提高，造什么都不难，只要有决心。
1955年开始研究原子弹，当时国家GDP约为900亿元，中国人口总数约为6亿，平均受教育程度不足3年。
今天，我国GDP突破了100万亿，人口达到了14亿，平均受教育程度突破了10年。
北斗导航全面组网成功，天问一号登上火星，5G、高铁、量子计算、大飞机等纷纷问世，部分技术达到了世界领先。
1978年，是我国博士培养的起点，那一年仅仅招收了18名博士生，到了2017年已经累计招收博士生约115万人，现在，中国14亿多人口，博士占人口的比重为万分之5.7。
1955年，中国汽车保有量10.15万辆，大部分家庭没有汽车，很多地方的农村连一辆都没有。
2020年全国机动车保有量达3.72亿辆，其中汽车2.81亿辆；机动车驾驶人达4.56亿人，其中汽车驾驶人达4.18亿人。无论是城市还是农村，汽车已经不在稀奇，甚至很多地方，一个家庭没有汽车才算是稀奇的事情。
可以说无论从经济实力，科技发展、受教育程度都发生了巨大的变化，以目前的实力制造光刻机是完全可以实现的，只是时间的问题，那么我国的光刻机究竟有没有呢？
1、我们有国产光刻机吗？
答案是有，生产企业是上海微电子。
2、国产光刻机现在能做到什么程度？
我们在上海微电子官网可以看到，2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收。也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺。
3、国产28纳米光刻机是什么情况？
知名媒体DIGITIMES曾报道，上海微电子有望在2021年四季度交付第二代深紫外光（DUV）光刻机，该设备可实现28纳米工艺。
所以，基本上可以做实，上海微电子的确在做可以实现28纳米制程的国产DUV光刻机。只是是否通过验收，到底何时能交付，目前未知。
荷兰有人说图纸给我们也造不出光刻机来，这句话已经被否定了。
我国光刻机在精确度上与ASML的EUV光刻机仍有差距
我国的光刻机即将进入28nm，28nm能够达到什么水平呢？
严格意义来说，28nm真的算不上高水平，它的前面还有14nm、7nm、5nm、3nm。
但是28nm成熟工艺，可以生产日常生活中电子设备芯片，如：汽车、冰箱、空调、电梯等，而且28nm能够生产军用芯片，这些不需要太高的制造工艺，需要的是足够高的稳定性。
28nm芯片，如果用在手机上，那就差强人意了，甚至是无法使用，因为手机空间有限，需要散热、大容量电池等，那就对芯片尺寸有了很高的要求，也就需要更高的工艺水平，例如5nm、3nm制造工艺。
不同工艺生产出不同性能的芯片，我们以麒麟芯片为例来看一看：
麒麟950，16nm工艺制程，30亿个晶体管，4x2.3GHz A72+4x1.8GHz A53的架构；
麒麟990，7nm工艺制程，103亿个晶体管，包括一个3.13GHz A77大核心、三个2.54GHz A77中核心、四个2.04GHz A55小核心。
麒麟9000，5nm工艺制程，153亿个晶体管，包括一个3.13GHz A77大核心、三个2.54GHz A77中核心、四个2.04GHz A55小核心。
可以看出，随着工艺制程不断的升级，芯片的晶体管数量也在快速地增加，性能也不断的变强。
16nm工艺制程的芯片晶体管数量仅为5nm工艺的1/5，那么28nm与5nm的差距只会更大。
我国的光刻机需要多久能够达到世界先进水平呢？
以过去的经验来看，我国制造出世界领先的光刻机至少需要20至30年的时间，加上美国对技术和零部件的封锁，需要花费的时间会更长。
但是现在的时代是在飞速的发展，我们同样也要用发展的眼光去看待一件事，今天的中国无论是经济还是科技都已经上了几个台阶。
1955年，百废待兴，经济和科技十分落后，中国人咬着牙，硬是造出了原子弹，陈毅元帅的话说：“中国人就是没有裤子穿，也要造出原子弹”。1964年10月16日，中国第一颗原子弹在罗布泊爆炸成功，彻底打脸了苏联领导人赫鲁晓夫（赫鲁晓夫曾大言不惭地说中国离开苏联不可能研制成功原子弹）。
然而，更为震惊的是不到3年时间，中国第一颗氢弹空爆试验成功，从第一颗原子弹到第一颗氢弹，白手起家的中国人只用了两年零八个月的时间，再次创造了奇迹。
1970年4月24日21时中国第一颗人造卫星"东方红一号"发射成功，由此开创了中国航天史的新纪元，使中国成为继苏、美、法、日之后世界上第五个独立研制并发射人造地球卫星的国家，又一次创造了奇迹，足见中国人可以创造更多的奇迹。
这就是著名的“两弹一星”工程，也由此产生了“两弹一星”精神，在这种精神下，我们将无往不利，攻坚克难。定能够攻破高端光刻机。
事实上，在该领域我们也在不断地突破：
2018年8月份，清华大学的研究团队研发出了双工作台光刻机，我国成为全球第二个具备开发双工作台光刻机的国家。
无独有偶，2018年11月，中国科学院光电技术研究所承担的“超分辨光刻装备研制”通过验收，该装备采用365nm波长的紫外光单次成像，实现了22纳米的分辨率，结合双重曝光技术后，未来还有可能用于制造10nm级别的芯片。
紧接着，在2019年4月，武汉光电国家技术研究中心甘棕松团队突破了光束衍射极限，采用远场光学的办法，成功刻出9nm线宽的线段，实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新，这个技术让我国打破了三维纳米制造的国外技术垄断。
近几年突飞猛进的科技水平，创造了无数的奇迹，相信在光刻机领域我们同样能够创造出奇迹。
根据研究机构IC Insights发布的《2020-2024年全球晶圆产能》报告，预计到2024年，半导体制程格局将出现10nm以下，10-20nm，20nm以上工艺三分天下的格局，各自市场占有率约为1/3。
28nm以上的成熟工艺在未来四年的市场份额没有明显变化，仍然有很大的市场，在这四年内，我们的光刻机水平也定能够再上一个台阶。
荷兰有人说图纸给我们也造不出光刻机来，这句话已经打脸了，因为我们已经拥有了光刻机，制造商为上海微电子。
而且是纯国产，这一点上比ASML还要牛，因为它生产的光刻机是集合多国精尖技术于一身打造的，如果受到限制，也只能停产。
总之，我国已经拥有光刻机，而且在未来几年还会拥有更为先进的光刻机。