当地时间周三，全球最大的光刻机公司ASML发布了2021年Q4季度及全年财报。
2021年Q4季度，ASML公司实现净销售额49.86亿欧元，毛利率54.2%，，净利润17.74亿欧元，当季净订单额71亿欧元。
至于2021年，ASML公司实现净销售额186.11亿欧元，较上一财年增长33%，净利润也从35.54亿欧元涨至58.83亿欧元，全年净订单额达到262.4亿欧元，较去年同期翻了一倍，需求强烈。
ASML CEO表示：“我们对系统的需求超出了我们的生产能力所能承受的范围。终端市场非常强劲的需求给我们的客户带来了更多晶圆产量的压力。为了支持我们的客户，我们正在为他们的客户提供高生产力升级解决方案。安装基础，我们正在缩短工厂的周期时间以运送更多系统。减少周期时间的一种方法是快速发货，例如跳过我们工厂的一些测试工作。最终测试和正式验收随后在客户处进行这导致这些出货量的收入确认推迟到客户正式接受之前，但确实为我们的客户提供了更早获得晶圆输出能力的机会。
2021年中，ASML出货了EUV光刻机总计多达42套，2020年是31套，实现营收63亿美元，算下来平均每套EUV光刻机要1.5亿欧元，折合人民币10.8亿元。
其中Q4季度新增的71亿欧元光刻机订单中，除了当前NA 0.33的EUV光刻机之外，还首次实现NA 0.55高数值孔径EUV光刻机的销售，这一个订单是英特尔订购的。
该光刻机型号为ASML TWINSCAN EXE:5200，TWINSCAN EXE:5200是ASML的高NA（数值孔径）EUV光刻机，其吞吐量超每小时220片晶圆（wph）。
从路线图来看，EXE:5200预计最快2024年底投入使用，2025年开始大规模应用于先进芯片的生产。
和0.33NA光刻机相比，0.55NA的分辨率从13nm升级到8nm，可以更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，突破0.33NA单次构图32nm到30nm间距的极限。
外界预计，第一代高NA光刻机EXE:5000会率先用于3nm节点，至于EXE:5200，按照Intel的制程路线图，2025年至少是20A或者18A，也就是5nm和5nm+。
此前，ASML发言人曾对媒体透露，更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺，将极度依赖高NA EUV光刻机。