ASML研发新版本EUC光刻机，可制造更复杂的芯片

据悉，全球最先进的光刻机厂商ASML正在开发一款新版本的EUV光刻机，研制成功后它将是世界上最先进的芯片制造设备。

该光刻机名为High NA，目前第一台机器正在研发之中，预计摇到2023年才会提供先行体验，可以让芯片制造商更快地学习如何使用。客户可以在 2024 年和 2025 年将以此进行自己的研发工作。从 2025 年开始，它们很可能用于大批量制造。

新款NA光刻机可以制造出更复杂的芯片，光刻机是生产芯片最重要的工具，也是生产大规模集成电路的核心设备，决定着芯片工艺。小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产。EUV光刻机如今名气巨大，其实推出时间并不长。

虽然NA光刻机还未面世，但已经受到了全球芯片厂的关注，英特尔首席执行官此前就表示，英特尔有望成为ASML新机器的第一个使用者。