光刻胶作为光刻机对硅膜片进行曝光、印章的核心原料，其地位随着各国半导体行业竞争的加剧而提高。目前半导体行业最发达、设备技术影响最广泛的国家有三个，它们分别是美国、日本、韩国。
我国作为半导体领域中的新晋黑马，因在世界舞台上的高光表现，威胁到美国在半导体领域中的“霸权”地位；为了限制我国半导体行业的发展。美国对我国实行市场打压、技术限制以及设备出口制裁。例如拉拢日本构建对华半导体垄断联盟，邀请台积电、三星加入SIAC集成电路技术协会等。
其实在半导体领域产生争端的不仅是我国与美国半导体；日本与韩国半导体也曾在2019年爆发过一次争端。日本禁止向韩国出口“氟聚酰亚胺”、“光刻胶”和“高纯度氟化氢”，韩国国内掀起一场有关“振兴韩芯半导体核心原材料”的运动。
补充一点，光刻胶是用于芯片制造过程中，光刻机对硅芯片表面进行曝光前；用来保护芯片集成电路，确保其不会受到外界侵蚀、损坏的胶状物。“氟聚酰亚胺”、“高纯度氟化氢”则是面板生产中的高精尖产品。韩国对日本EUV光刻胶的依赖程度达90%，对用于面板制造的日本原料依赖程度达80%~90%。
我是柏柏说科技，资深半导体科技爱好者。本期为大家带来的是：对日光刻胶依赖度超90%，韩国半导体“抗日”失败，中国光刻胶原料的发展现状。
高开低走似乎一直是围绕着韩国半导体的主题，直到2021年，时隔两年后的韩国半导体依旧面临着被日本原料“卡脖子”的问题。虽说在被日本制裁后，韩国开始努力尝试摆脱对日本原料的依赖，但在进口和技术研发上，韩国半导体四处碰壁。
进口方面，尽管韩国改变早先从日本进口原材料的方针，开始进口其它国家的半导体原料，但在本质上依旧没有脱离日本厂商的控制，例如韩国从比利时进口的光刻胶。韩国半导体披露消息称；自2019年7月，日本对韩国实施出口限制以来，韩国从比利时进口的光刻胶增加了10倍，对日本光刻胶的依赖程度下降到50%。
有意思的是，正当韩国为之洋洋得意之时，日本半导体的一则声明，打醒了韩国企图摆脱日本原料的幻想。即韩国向比利时进口的光刻胶，其实是日本JSR旗下的子公司生产的。不只是光刻胶，韩国通过其它国家进口的半导体原料，几乎都与日本半导体挂钩。例如用于面板制造的氟聚酰亚胺，韩国于2021年上半年为日本贡献了4430万美元，进口额同比增长了15%，这让一向爱好吹嘘的韩国半导体一时半会下不了台。
不过日本与韩国之间的制裁与反制裁之争，并没有真正撕破脸面。日本的光刻胶依旧进口到韩国，韩国也依旧向日本购买、进口半导体原料。毕竟韩国是全球最主要的芯片生产地之一，日本的光刻胶市场离不开韩国，韩国的半导体产业制造离不开日本。
说完韩国与日本的“闹剧”，我国的半导体原料发展现状如何呢？事实上，在高端光刻胶领域中，我国也是需要向国外进口，来满足自家的芯片代工的需要。诸如适用于14纳米制程以下的ArF、KrF干刻式、浸入式光刻胶。但与韩国半导体不同，我国在用于低端芯片制程的光刻胶上，实现了自给自足的目标。
此外，有关ArF、KrF高精尖光刻胶的制备，南大光电已经成功攻破，并实现了小规模量产。目前正在积极地投产、扩建中，相信用不了多久，我国便可以实现高精尖光刻胶自给自足的目标。
补充一点，南大光电破冰成功的ArF光刻胶已经通过了国家重大科技事项（02专项）专家组的验证。在制备设备与制备技术、原料上，南大光电均实现了自主化技术的掌控。
美国与日本对我国半导体行业的打压，让我们意识到，只有自己掌握核心技术，我们才能够在半导体领域中掌握自主权。祝愿国产半导体厂商愈发强大，在半导体领域中早日掌握自主权。
对于韩国半导体“抗日”失败这件事情，大伙有什么想说的呢？你认为我国能否实现半导体领域从原料到设备，再到软件、硬件技术的全方面自主呢？欢迎在下方留言评论。
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