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7nm已获专利!南大光电完成国家科技重大专项,芯片光刻胶已验收

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柏柏说科技 2021-07-31 16:29

光刻胶是芯片制造不可或缺的重要原料,是光刻机进行硅膜片曝光、设计图案印章的核心材料。作为国内光刻胶主要供应商的代表,南大光电在光刻胶领域中持续破冰。在美日半导体技术垄断的背景下,南大光电依旧完成了有关高端芯片原料技术的突破。

我是柏柏说科技,资深半导体科技爱好者。本期为大家带来的是:南大光电适用于高端7纳米集成电路制造用ArF干式、浸没式光刻胶完成验收。南大光电承担的“国家科技重大专项(02专项)项目”通过验收,将给国产半导体厂商带来怎样的改观?

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老规矩,开门见山。2021年7月29日,南大光电官方发布公告(下图):“关于公司承担的国家科技重大专项(02专项)”已通过专家组验收。其中包括极大规模集成电路制造装备及成熟工艺、先进7纳米光刻胶产品开发与光刻胶供给链产业化。

据了解,南大光电承接的“国家科技重大专项(02专项)”,其项目目标是:开发高端集成电路用高端制程光刻胶,建设一条具备大规模生产能力、拥有自主知识产权体系的生产链。成立一个能够与国际先进芯片原料接轨的技术与管理人才团队。

值得一提的是,适用于高端集成芯片制备,可用于7纳米芯片制造的ArF干式、浸没式光刻胶南大光电成功交付给专家组验证。有关于南大光电ArF光刻胶的更多信息,负责验收南大光电ArF光刻胶的专家组表示:南大光电在ArF干式、浸没式系列光刻胶产品上,实现了从原材料制备到应用的自给化,有关光刻胶生产的配胶、分析检测等技术环节,南大光电也全部掌握。

此外,有关光刻胶产品知识产权及相关人才的培养;南大光电内部形成了由51人组成的ArF光刻胶研发及生产管理团队。在光刻胶成品的质量把控及良品率调控上,南大光电成功建成ArF光刻胶质量控制平台。目前南大光电已具备年产25吨光刻胶成品的能力,其中包括5吨干式ArF光刻胶、20吨浸没式ArF光刻胶。

补充一点,专利方面;截至2021年,南大光电申请专利总计91项、国内发明专利有81项、国际发明专利4项、实用新型专利6项(已授权)、制定团体标准3项、研制新产品2项。

南大光电完成7纳米光刻胶项目的攻破,将给我国的半导体行业以及南大光电自身带来怎样的影响呢?

对于国产半导体行业来说,南大光电7纳米光刻胶的交付,能够缓解我们在半导体领域中,特别是芯片代工领域中,被芯片原料卡脖子的难题。有助于加快我们在芯片代工领域中实现自给化目标的脚步。

ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的关键材料,目前我国在ArF、KrF光刻胶领域中的市场占比较少,全球大多数的光刻胶市场都被美国、日本垄断。作为一家国产企业,南大光电在美日半导体高频打压我国半导体行业的背景下完成突破,为其产品增添了一份特殊的含义。

无论是国内市场、还是产品竞争力,南大光电并不比国外的光刻胶企业差,更何况南大光电已经完成了7纳米光刻胶的验证、交付。但有一点需要注意:有关7纳米ArF光刻胶的应用,南大光电目前只是小规模投产,与之相关的生产线正在构建当中。

有一说一,与信越化学等国外光刻胶厂商相比,南大光电在生产效率、生产规模中处于不利地位。如何增强自家产品的影响力、提高产品在光刻胶市场份额中的占比,对于南大光电来说是一场不小的挑战。但不管怎么说,这次南大光电完成7纳米光刻胶的验证,对于自身,对于国产半导体行业来说是一件好事情。

虽说南大光电目前只是实现了小批量的7纳米ArF光刻胶投产,但至少可以保证我们不会在光刻胶领域中被国外彻底卡住。滴水穿石,相信只要坚持下去,一切难题都会迎刃而解。祝愿国产半导体厂商愈发强大,在半导体领域中早日掌握主动权。

对于南大光电完成7纳米光刻胶交付,ArF光刻胶通过“国家科技重大专项(02专项)验收”这件事情,大伙有什么想说的呢?眼下能够生产7纳米制程芯片的ArF光刻胶已交付,我们距离实现7纳米芯片自主量产的目标,还有多远呢?

欢迎在下方留言、评论。我是柏柏说科技,资深半导体科技爱好者。关注我,带你了解更多半导体最新资讯,学习更多的有用知识。

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