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导读：关于EUV光刻机，美国刚想再次“打压”，央视就传出好消息！
众所周知，中国虽然是全球有名的科技大国，又是全球数一数二的制造大国，但是我国在半导体芯片领域的发展却一直都落后于西方发达国家，这主要是因为在过去的几十年时间里，中国科技企业在半导体芯片领域的发展一直都受到“造不如买”等思想的影响，所以我们一直都没有投入重金去研发和制造芯片，因为可以轻松从国外购买到芯片，所以国内科技企业也就放松了打造自主化芯片供应链体系的思想，但这也为国产科技企业的发展埋下了“祸端”！
当我国的华为公司被打压以后，才让国内科技企业开始意识到打造自主化芯片供应链体系的重要性，所以最近这几年，在国内也开始快速的掀起了一股研发和生产芯片的潮流；一时间不仅大量的资金和政策开始扶持半导体芯片企业，而且在国内众多和半导体芯片相关的企业也开始如雨后春笋般的诞生了，这也让我们看到了国产芯片自给自足的希望！
实际上，我国华为海思半导体在芯片研发领域已经走在了世界的前列，现在华为已经能够成功研发出5nm的海思麒麟9000芯片，而真正困扰我们发展的主要是芯片生产领域的难关，想要生产先进的半导体芯片，就必须要有先进的EUV光刻机才行，而全球能生产EUV光刻机的，目前也就只有荷兰ASML公司一家，所以国内想要快速的解决芯片生产难题，就必须要从ASML公司身上下手才行！
不过ASML公司的很多技术也都是源自于美国，所以我们还是无法从ASML公司手中购买到光刻机，而此前我国也已经批准了荷兰ASML公司在中国的扩大发展，并让ASML公司将先进的零部件卖向中国市场，但就在这个时候，美国却想要再一次的“打压”中国半导体产业的发展，并施压给ASML公司表示：ASML公司的出口必须要遵循规则，否则后果是非常严重的！
美国的连续不断“施压”，也让ASML公司不敢将EUV光刻机卖给中国企业，就算是我们出高价购买，ASML公司也一直都没有发货；不过就在这时，我国的央视却传来好消息；据央视报道的消息显示：在中科院、清华大学等机构突破了EUV光刻机的三大核心零部件“光源、光学镜头、双件工作台”以后，国内的另一大科技企业中科科美公司也成功研发出了精度高达1nm的直线式劳埃透镜镀膜装置，有了这一装置以后，我们离先进的EUV光刻机也就更进一步！
虽然说EUV光刻机含有10万多个零部件，供应商来自于全球超5000家企业，但是光刻机始终还是人造的，并不是神造的，所以这也并不能阻挡我们自主研发光刻机的热情，现如今，国内已经成功研发出了28nm的光刻机，而且在年底前就能交付使用，要不了多久，先进的EUV光刻机也就能取得突破，到时候国内打造自主化的芯片供应链体系也将不再是难题，不知道对此你是怎么看的呢？