安静的办公室里,荧光灯发出的嗡嗡声是否经常让你感到不安?这声音是从镇流器发出来的,镇流器(ballast resistor)是日光灯必不可少的配件,起到限流和产生瞬间高压的作用,它是在硅钢制作的铁芯上缠漆包线制作而成,这样的带铁芯的线圈,在瞬间开/关上电时,就会自感产生高压,加在日光灯管的两端的电极(灯丝)上。镇流器在日光灯工作时,两端一直有电流通过,所以容易产生振动,并且会发热,所以有镇流器的日光灯,特别是镇流器质量不好时,会产生很大的声音,用的时间长了,还容易烧毁。简单来说,荧光灯的嗡嗡声与日光灯中磁铁性材料的磁制伸缩特性有关,拥有这一特性的材料,他们的形状变化会与磁场相关联,磁化材料受到外加磁场作用时,每一磁区会产生一扭转力矩N=m×B(m 为磁炬,B 为磁束密度),受此力矩影响,晶格方向会稍微旋转,材料的尺寸也会改变。虽然日光灯的嗡嗡声可能会成为社畜们无心工作时的甩锅对象,但这一磁致伸缩特性却有望为新一代更高效的计算设备提供动力。磁电设备可以使用磁场来存储二进制数据:微小的电脉冲使它们略微膨胀或收缩,将它们的磁场从正变为负,或从负变正,因而不需要像目前的芯片那样源源不断地供给电力,仅使用一小部分能量就能完成同样的工作。有专家认为,磁致伸缩材料的应用可诱发一系列的新技术,新设备,新工艺。它是可提高一个国家竞争力的材料,是21世纪战略性功能材料。

打开网易新闻 查看更多图片

目前大多数的磁致伸缩材料都需使用稀土元素,稀土元素数量稀缺且成本高昂,很难满足规模化发展计算设备的需求。Fe 1− x Ga x合金是性能优越的无稀土磁致伸缩材料,但由于寄生有序金属间相的存在,其磁致伸缩性能在x = 19%时会被显著抑制,这也阻碍了成本低廉的铁镓合金在下一代计算设备中的应用。密歇根大学密材料科学与工程系的研究团队J. T. Heron等人提出了一种低温分子束外延工艺,可有效解决这一问题,大幅提升Fe1− x Ga x合金的磁致伸缩性能,使其至少达到同类材料的两倍,且成本远低于同类材料研究成果以《Engineering new limits to magnetostriction through metastability in iron-gallium alloys》为题,发表在《Nature Communications》上。

【材料的结构与制备】

打开网易新闻 查看更多图片

图. A2 Fe1−xGax 在 (001) PMN-PT上的外延稳定性.

通过分子束外延沉积技术在1 毫米厚 (001) 取向的 PMN-PT衬底上生长了(001) 取向,含15 nm 厚的 A2 (\(\alpha\)-Fe)相,磁致伸缩的 Fe 1− x Ga x ( x  = 0.215, 0.245, 0.30) 单晶薄膜。使用定量电子能量损失光谱法(EELS,Sup. Note 2)和卢瑟福背散射光谱法测得样品中的相对 Ga:Fe 浓度为 21.5 ± 3%,24.5% 和 30% Ga,远超过有序Fe 1-xGa x金属间相的形成阈值—19% Ga,但测试结果显示薄膜仍处于A2 相,外延技术使得A2相的区域得以扩展。当对薄膜进行退火处理以期促进热力学相的形成时,没有观察到任何相的变化,薄膜的磁性没有变化,只是异质结构发生了降解。

【磁电开关和增强的磁致伸缩性能】

图. 磁电开关

为了研究相结构和Ga浓度如何影响 Fe 1-xGa x薄膜的磁致伸缩性能,制备了基于Fe 1-xGa x合金薄膜的磁电开关器件。使用该器件作为接地和热引线的背面触点,沿着基板厚度方向施加电场。在角度和磁场变化下进行各向异性磁阻 (AMR) 测量,以确定磁化方向和磁各向异性。在 ±4 kV cm-1的电场下,低磁场 (50 Oe) AMR 扫描表明了正弦电阻的 90° 相移,这说明两个外加电场的磁化方向相差 90°。而在+ (−)4 kV cm−1处饱和时,磁化强度与电流方向相差大约 + (−)45°,这表明了磁化强度的方向。磁化方向与电场回路的关系可用于量化有效的逆磁电系数。

通常情况下,铁镓合金的磁致伸缩会随着镓含量的增加而增强,但体系中越来越多的Ga会诱导形成有序的原子结构,使磁致伸缩性能的增强趋于平稳并最终下降。研究团队使用的低温分子束外延工艺,可以将原子冻结在原地,防止它们在更多镓添加量时形成有序结构。此外低温分子束外延技术也有便于测量薄膜的磁致伸缩特性。

图. 通过外延稳定增强磁致伸缩系数

【结论】

总的来说,通过使用低温分子束外延工艺可以扩展所需相的稳定性,使Fe 1-xGa x合金中Ga含量增加一倍,磁致伸缩性能增加十倍,这挖掘了基于非稀土元素高性能磁致伸缩的可能性,拓展了复合多铁性材料在下一代高效计算设备中的应用范围。

Communications, 2021; 12 (1). DOI: 10.1038/s41467-021-22793-x

来源:高分子科学前沿

声明:仅代表作者个人观点,作者水平有限,如有不科学之处,请在下方留言指正!