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石墨烯、国产光刻机都来了,中芯28nm尴尬吗?吴汉明:做得对!

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隔壁王科技 2021-06-14 22:20

国内半导体市场,到底处于什么状态?

老美发布了2nm芯片技术,三星用4nm代工高通的订单,而台积电的5nm产能基本是被苹果承包,当下包括欧盟、日本都开始进军3nm、2nm领域,为此还多次邀请台积电过去建厂,但是国内呢?似乎是先进与成熟共存,这,或许和市场和技术和需求等等原因有关吧!

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去年经过特不靠谱的一顿操作,自研的呼吁也更加强烈,甚至一度出现了“火爆”局面,当听到有关半导体方面的消息就会无限的放大化,如今天攻克了光刻机,明天实现了芯片自主等等。其实这背后都是对国产芯片崛起的渴望,而就在去年10月左右的时候,中科院确实在上海亮相了石墨烯芯片,这被国内称之为“弯道超车”,那个曾经被外国专家说“给你们图纸也造不出”的光刻机,近来也传出好消息,可与之不同的是当大家将目光聚集在中芯身上的时候却发现它更聚焦于28nm这样的成熟工艺领域,这是不思进取吗?近来国内院士的一席话,算是给出了答案!

国内半导体的“弯道超车”!

与其说这是弯道超车,不如说这是我们众多工程师不分昼夜地拼搏,这是我们对于自主的渴望。

老美发布了2nm芯片技术,距离上市还有一段时间,其实这一点和去年中科院公布的石墨烯芯片有类似的地方。

中科院所亮相的石墨烯芯片只是少部分试产,但是通过这个试产也能够看得出,不管是在尺寸上还是在性能上,都优于其他国家的成果,而石墨烯也是被业内寄以厚望,或许后面的追赶就是换道,如果真是如此,那么我们已经有了不错的成绩。

只不过中科院也表示,现在只是在实验室中,什么时候能够进行商用还是一个未知数,但有总比没有强吧!同样,今年初清华也公布出一项研究,这项研究成果很可能会取代现在荷兰ASML光刻机所采用的光源系统,而中科院在本月初也公布了一项新的技术,快速光学邻近效应修正技术,是集成电路制造关键的光刻技术之一!

中芯没传来7nm消息,该尴尬吗?

梁孟松在去年年底的时候就曾表示,将会在今年4月试产7nm,奈何不仅没有传来7nm的消息,还有消息称今年的资本支出多数偏于成熟工艺!

“这不是停滞不前吗”?不少网友疑惑

中芯一年内两次扩产28nm领域,看似是扎堆“成熟工艺”领域,其实也是很重要的一步!

吴汉明院士在前几日的某大会上表示,摩尔定律已经开始接近物理极限,追赶者也就有了机会,但是就目前来看国内所需产能8个中芯来填充才行。而更为重要的一点是吴汉明认为在今后的大国竞争中,一定是产业化竞争,也就是说,不是单靠一个领域或是一个技术,就能在今后的竞争中站稳脚跟!

再者,吴汉明提到当下的市场,其中10nm以上节点占据83%的市场,这样看来中芯扩产28nm,也算是不错的选择!

首先国内需求如此,扩大28nm产能可以获得一部分收益,也便于公司恰饭。其次28nm在国内不管是设计、制造、封测都有公司能够参与进来,如此一来也是将产线拉出来,可以说,28nm算是一个“安全线”!

这道路漫长,追赶也已经在路上,稳住成熟工艺,再去发展先进技术,不失为一种上策!

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