芯片技术是国内的软肋之一，据了解，国内芯片技术主要弱在芯片设计软件、芯片制造以及半导体制造设备等方面。
但在芯片研发设计方面，国内已经走在世界前列，尤其是手机芯片和5G芯片等，华为就是最好的例子。
原本在芯片制造方面，国内也能够走在世界前列，当年张汝京在国内创办中芯国际，与台积电的技术仅相差一代。
但由于台积电等方面持续打压，迫使张汝京离开，中芯国际在10年内几乎没有起色。
梁孟松等技术大拿的加入后，让中芯国际再次雄起，不仅实现了盈利，还一年两次扩产28nm等芯片的产能。
46台光刻机，近3000项光刻机专利，ASML新数据来了
美国修改规则后，国内厂商开始联合起来奋发向前，不仅要提高芯片自给率，还要发展新材料、新工艺以及半导体制造设备等。
但没有想到的是，ASML突然一改往常态度，多次明确表态，不仅要加速在国内市场布局，还将向国内厂商提供其能够提供的一切技术。
进入2021年后，ASML多次对外发布消息，其中，ASML表示，2020年向国内厂商交付了46台光刻机（不含台积电），今年第一季度交付了11台光刻机。
不仅如此，ASML还与中芯国际签订了12亿美元的光刻机等技术出售协议。最主要的是，ASML在国内拥有近3000项光刻机专利，这些都是国内的ASML团队研发的。
也就是说，ASML加大力度向国内销售光刻机，还不断在国内申请光刻机等技术专利。
但针对ASML这样的举动，不得不防。
首先，ASML向国内厂商销售更多光刻机，并加大在国内市场布局，国内市场自然欢迎的。
倘若ASML想倾销光刻机占领国内市场，从而阻碍国内光刻机厂商发展，这是不行的。
毕竟上海微电子已经明确表示，国产新一代光刻机将会在今年量产下线，其也是深紫外光刻机，能够用于生产制造7nm以上制程的芯片。
更何况，突破EUV光刻机的重任基本落在了上海微电子等国内企业的身上，而ASML在短时间内是不会向国内厂商销售EUV光刻机。
只有保护好上海微电子等国产光刻机厂商，让其有足够的市场和利润，才能够进行更先进光刻机的研发与生产。
其次，ASML在国内研发团队在光刻机领域内申请了近3000项技术专利，这说明在光刻机方面，国内还是有相当多的人才。
但是，对于ASML大举在国内申请光刻机专利这种行为，也是值得深思的。
虽然申请专利是无可指责的行为，但高通是前车之鉴，其利用通讯专利迫使手机厂商采用高通芯片，一旦不用，就进行专利打压和限制。
要知道，国内市场是全球最大的芯片消费市场，而国内厂商又都在全力提升芯片自主制造能力，自然需要大量的光刻机。
一旦ASML利用在专利要求国内厂商采用其制造的光刻机，或者向其缴纳高额专利费用，这将是得不偿失。更何况，国产新一代光刻机正在攻坚，马上就量产下线了。
最后，ASML已经在韩国建厂
ASML已经宣布在韩国建厂，这意味着三星和ASML的关系更进一步了。
要知道，先进光刻机的研发和制造离不开大量的芯片生产数据，ASML已经有了台积电，如今又将多一个三星。
这意味着ASML将会有源源不断的数据，对先进光刻机的研发无疑是如虎添翼。
新一代光刻机上线，旧款光刻机自然会倾销，这也是ASML的一贯作风，就像现在出售DUV光刻机而不卖EUV光刻机一样。
总结一下就是，ASML销售光刻机是好事，但若是打着销售的光刻机的旗帜，阻扰国内半导体设备制造企业的发展，这是不行的。
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