不存在传言中的35nm光刻机，按照国内的十三五规划，我们的目标是研发出“28nm节点浸没式分步重复投影光刻机”并实现产业化，至于这台机器什么时候能出来，我们可以从当前的一些新闻报道中来猜测一二。时间节点可能是2022年：2020年11月23日上海市浦东新区金融工作局官网有一篇名为“浦东金融局走访调研上海微电子”的文章，其中对上海微电子做了简短的介绍，称：“上海微电子是国内唯一从事研发、生产以及销售光刻机的厂商，预计将于2022年交付首台28nm工艺国产沉浸式光刻机，国产光刻机从此将突破到28nm制程。”
此文的背景是上海浦东金融局去上海微电子做调研和开座谈会时，上海微电子高管当时就光刻机业务做了详细介绍。这一信息相当于是上海微电子自己官宣了28nm节点光刻机的推出时间，而上海地方政府部门官网又发布了对应的新闻，一定程度上也意味这是官方认可的信息。
那么如果上海微电子后续的工作没有出现重大延误，那么2022年这个交付节点还是相对可靠的。从配套产业来看光刻机进度：我国中科院之前制定了02专项，也就是“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”，根据这一战略大目标，国内将调集所有能动用的科研机构来研发光刻机以及配套的设备，光中科院旗下的机构就包括长春光机所、光电所（成都）、上海光机所等单位，此外还有一大批高等院校。
目前来说，光刻机核心的子系统我们都已经取得突破，比如双工件台、浸液系统、准分子激光光源等都已经解决，当前都在由配套的厂商在进行生产建设，对应的工厂有的在建，有的快要完工。比如光刻机中的光学和物镜系统，涉及产业化的企业是国望光学，2019年底时生产基地开工，计划2023年建成。
从以上光刻机配套产业的进度来看，基本上可以看出国产光刻机的进度也应该八九不离十，配合前述上海微电子2022年的说法，可以说这个时间点是比较可靠的。其实从去年中开始关于上海微电子28nm节点光刻机的消息就满天飞，有人说2020年底能下线，也有人说要2021年。具体何时，我们只能继续等待了，就当前的消息来说，个人觉得唯一靠谱的就是上述上海市浦东新区金融工作局官网提到的时间节点。如果2022年真的能实现，那就是我国半导体产业的一大进步。