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针对7nm芯片,中芯国际做出正式回应,EUV光刻机地位难以替代

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娱乐聚会了 2021-05-13 06:21

中芯国际作为中国大陆第一晶圆代工厂,被寄予了厚望。近来有消息称,中芯国际在没有EUV光刻机的情况下,攻克了类7nm工艺。

日前,有股民便针对这一问题,在互动平台上询问。中芯国际回复称,公司不针对传言进行评论。

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就目前而言,中芯国际最先进的工艺仍为14nm。此后其还将攻克N+1、N+2工艺,不过具体的工艺节点并没有指明。

对于中芯国际来说,想要攻克7nm及以下制程,EUV光刻机的地位难以替代。

光刻机是芯片制造中的核心设备,光刻机性能的先进性与芯片精度直接相关,影响着芯片的性能。可见,光刻机对芯片行业的重要性。

其中,EUV光刻机更是同物理学、精密制造、材料学等无限逼近的存在。EUV光刻机的波长仅为13.5nm,可以胜任7nm及以下制程芯片的制造。

荷兰ASML曾表示:如果我们交不出EUV光刻机,摩尔定律就会从此停止。

EUV光刻机的重要性使其虽然价格高昂,单价超1亿美元,但依然受晶圆厂争抢,处于供不应求的状态。

当前,全球荷兰ASML能生产EUV光刻机,其在这一领域处于100%垄断的地位。

而且,ASML的地位难以撼动,其已经形成了技术与生态两大壁垒。

在技术上,ASML的领先毋庸置疑。在《光刻机之战》一文中,这样形容EUV对光集中度的要求:相当于拿个手电照到月球光斑不超过一枚硬币。身为EUV光刻机垄断者的ASML,技术实力自然相当强大。

而在生态上,ASML的优势更是难以撼动。一台光刻机需要80000个零部件,需要上下游企业的共同配合。ASML的背后有将近5000家供应商的支撑,筑起了坚实的生态壁垒。

因此,想要打破ASML的垄断十分困难。

当前,光刻机已经成为我国芯片产业的最短板,制约着国产芯片走向高端。在光刻机研制的方面,挡着几大难题。

一是技术难题。光刻机被誉为半导体皇冠上的明珠,是全球顶尖技术的集合。

二是打通上游产业链。一台EUV光刻机所需的零部件达8000个,且都有颇高的技术难度,因此需要全球产业链的配合。

三是光刻机研制耗资巨大。据了解,当前掌握光刻机技术的国家,均已经耗费了将近4000亿元,所需的研发投入巨大。

受种种因素的影响,我国在光刻机领域想要突围十分困难。

文/BU 审/球子

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