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导读:光刻机无法被取代?华为芯片技术曝光,中国芯片产业加速突围!

众所周知,在我国的华为公司被打击和制裁以后,就让无数的国产科技企业都意识到了打造自主化的芯片产业链的重要性,所以最近这几年,在国内市场上也开始掀起了一股研发和生产芯片的潮流;要知道,我们在芯片领域并非是一片空白,像华为海思半导体公司就是全球排名前十的芯片设计企业,而且华为也能设计出先进的5nm工艺芯片,而华为之所以会被人卡脖子,主要是因为我们在芯片制造领域被难住了,目前国内还没有厂家可以自主生产出7nm乃至是5nm工艺的芯片。

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而国产芯片厂家之所以生产不出来先进工艺的芯片,并与台积电和三星这些芯片代工巨头企业有着较大的差距,主要是因为我们缺乏先进的光刻机,说到底国产科技企业现在就是被光刻机给卡了脖子;作为生产半导体芯片的核心机器,光刻机无疑起着至关重要的作用,一个小小的芯片,看上去只有指甲盖大小,但是在芯片的内部却有上亿个晶体管线路,这些线路只有光刻机能完成,所以光刻机也是生产半导体芯片必不可少的一环。

但目前全球最先进的光刻机都是荷兰ASML公司所掌控,由于种种原因的限制,我们始终都无法从ASML手中购买到先进的EUV光刻机,在这种情况下,中国芯片产业想要进行突围,到底该怎么办呢?难道光刻机真的是无法被取代的吗?答案当然不是,在这个世界上,没有任何的事情是绝对的。

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首先我们要知道,光刻机之所以对现在的半导体芯片的生产很重要,这主要是因为现在的硅基半导体芯片只能采用光刻机来生产,而硅基芯片的发展是需要遵循摩尔定律的,等到硅基芯片发展到了3nm工艺以后,几乎就达到了极限,很难再往下发展,所以现在全球都开始在寻找新的技术和材料来进行研发,想要取代现在的硅基半导体芯片,而我们只要研发出新的芯片技术,那么光刻机也自然就变得不那么重要了!

既然说硅基芯片有一定的“天花板”,那么中国芯片想要实现突围和弯道超车,我们就必须要从新材料和新技术芯片领域进行探索,最近华为芯片技术曝光,就让我们看到了一丝希望;华为已经公开了一项名为“耦合光的光学芯片和相关发明专利,这一芯片技术可以利用光学芯片与另一光学器件之间耦合光的结合进行芯片生产,而光学芯片和量子芯片也一直都是被看作是有可能替代现在硅基芯片的技术,光学芯片通过持续产生的激光束作为光信号,替代电信号进行运算,这样就可以突破硅基芯片的限制,不仅功耗更低,而且性能更强,现在华为在这一芯片领域取得突破,也就意味着我们在光学芯片领域有了新的发展。

除了华为的芯片技术以外,此前我国在量子芯片领域也取得了一定的突破,像我们所研发出来的量子计算机“九章”就已经成功打败了谷歌的量子计算机,这也反映了中国在量子计算领域的实力,随着越来越多国产科技企业的不断突破,让中国芯片产业也开始加速突围,随着我们对光学芯片和量子芯片的进一步研究,到时候我们不仅将免在未来被卡脖子,而且还将摆脱对光刻机的限制,不知道对此你是怎么看的呢?