放眼全球光刻机制造领域，荷兰ASML是当之无愧的第一巨头；阿斯麦占据超过全球70%的高端光刻机市场，最先进的EUV光刻机一台卖价高达上亿元，且供不应求，因为在高端光刻机市场全球仅阿斯麦一家。
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光刻机基本制造原理
光刻机的作用原理有点像投影仪，首先由光刻设备投射的光源通过带有图案的掩模投射出来，经过透镜或镜子将图案聚焦在晶圆上。不过投射之后形成的形状不是平面的而是立体的，通过蚀刻曝光或未受曝光的部分来形成沟槽，然后再进行沉积、蚀刻、掺杂，架构出不同材质的线路，生出基础轮廓。此工艺过程被一再重复，将数十亿计的MOSFET或其他晶体管建构在硅晶圆上，形成一般所称的集成电路。
中科院有望突破制造瓶颈
中国利用光刻技术制造集成电路芯片的时间，大致应当是在1965年前后，而在2020年下半年，中科院曾公开宣布，要集结全院之力攻克光刻机制造难题，帮助中国企业摆脱卡脖子的命运。
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时至今日，中科院虽然没有传出相关好消息，但清华大学却公布了最新的研究成果。据了解，这项成果有望解决光刻机难题，让国产芯片未来可期。2月25日，清华大学工物系教授唐传祥研究组的，一篇有关新型粒子加速器光源“稳态微聚束”的研究论文，被发表在国际权威杂志《Nature》上。
光刻机制造为什么这么难？光刻机的世界只存在赢者通吃。除此之外，长周期投入以及高技术壁垒等都是很多新入局者难以逾越的高山。而目前全球掌握极紫外光源解决方案的只有美国和德国两家，而ASML采用的正是美国的解决方案，一旦国产光刻机实现自研，未来国产芯片将有无限的可能。