近期,国内著名学府西湖大学传来一个好消息。研发团队成功突破“冰刻”三维微纳加工技术,取得了一系列重要的研究成果。西湖大学在“冰刻”领域的突破,为未来“冰刻”技术取代“光刻”技术奠定了理论试验基础。随着“冰刻”技术的不断发展,依托该技术生产出来的“冰刻机”或将改变芯片制造工艺,未来有望取代目前市面上的光刻机设备。

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“光刻”与“冰刻”两者有很大的不同,前者是指在光照作用下,借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到基片上。而“冰刻”技术虽然仍旧属于电子书光刻技术,但它与传统工艺有着很大的不同,是将光刻胶换成了零下140摄氏度左右的冰膜。当电子束打在冰层上后,冰会气化,这样就能直接雕刻出冰模板。由于水蒸气可以包裹任意形状的表面,使得在脆弱材料上的加工成为可能,因此“冰刻”技术在未来有着很大的发展前景。

早在2012年,西湖大学就已经开始了对于“冰刻”技术的研究。在2018年,西湖大学研制制造出了世界首台“冰刻”系统。在近期,科研团队在2018年的研究成果基础上,在仅有头发丝八分之一的光纤末端,运用“冰刻”技术成功雕刻了上百件作品,成功的掌握了精准控制“冰刻”力度的技术。未来随着技术的发展,西湖大学有望研发出可以投入商用的“冰刻机”。届时,中国将实现弯道超车,彻底摆脱被“光刻机”卡脖子的现状。

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近些年,美国动用国家力量打压华为等国内高科技企业,正是通过芯片来做到一击即中。位列中国第二大的通讯设备公司中兴,在面对美国的打压时毫无还手之力。华为虽然屹立不倒,但在美国的打压下还是受到了很大的影响。究其根本,中国正是缺乏“光刻机”这样的重要技术,这甚至成为中国能否制造出高端芯片的关键设备。

西湖大学在“冰刻”技术的突破,为国产芯片带来了新的希望。虽然从现实角度来看,离生产出商用的“冰刻机”还有很长的一段路要走,但西湖大学已经用实际行动表明,凭借着中国人的聪明才智与艰苦奋斗,我们也可以研发出别国不具备的先进技术。“光刻”技术虽然暂时被西方国家封锁,但通过中国人民的努力,该技术迟早也会被中国企业成功突破。

编辑:嘤仔