改革开放四十年来，我国一步一步地靠着自己的不懈努力，成为了世界第二大经济体，经济发展之迅猛，爆发出的顽强生命力和无与伦比的创造力，让世界为之瞩目！中国创造了一个又一个奇迹，每一步都是中国人民智慧和辛劳的见证！
然而，由于历史原因，我国在半导体方面发展滞后，芯片严重依赖进口！像华为因为美国的芯片禁令，导致两项重要业务受损。这也让我国的芯片弱点更加暴露出来，西方某些人士就以此来否定我国的发展成就，开始发表一些毫无根据的言论和偏见！
像荷兰光刻机巨头ASML就曾表示，即使把图纸给你们，中国也造不出EUV光刻机！近期，有一位荷兰学者再爆偏见，声称不用提防中国，很多尖端科技和中国没有关系。当然这个偏见很快被打脸，现在我国芯片热潮已经兴起，芯片行业频传捷报！
第一：国产大族光刻机对外销售
光刻机是芯片制造过程中最核心的设备，被称为“半导体工业皇冠上的明珠”。一台光刻机由上万个部件组成，技术难度极大，也因此荷兰ASML尽管投入大量研发费用，也未能实现完全自主，仍要从美国、德国、日本等国家进口零部件。
也正因为这样，我国进口高端EUV光刻机才会受限。因此，要实现芯片完全自主，必须攻克光刻机技术。近日，我国激光巨头大族传来好消息，其研发的国产光刻机已经实现小批量销售，并且90%的核心零部件为国产！
这无疑是个好消息，大族激光在互动平台表示，其研发的光刻机分辨率为3-5μm，主要用于5G通讯配套分立器件、LED、Mini/Micro-LED新型显示等方面的应用。也就是说，不是制造芯片的光刻机，主要是用于芯片封测必须的设备。
但这也是重要的突破，因为要制造出顶尖的光刻机，就需要完善的供应链，大族激光也是重要的一环。此外，国内还有五家顶尖的核心零部件研发企业：长春国科精密负责研发复杂曝光光学系统，北京科益虹源负责提供光刻机光源系统，北京华卓精科负责生产提供光刻机双工件台，北京国望光学主要经营光刻机高端镜头，浙江启尔机电主要研发光刻机浸没系统。
第二：西湖大学研究出冰刻技术
只要是有突破就是进步，我国要制造高端光刻机不是从头开始，而是多年前就开始布局。中科院长春光机所于2008年就启动了“极紫外光刻关键技术研究”，并已突破了多项EUV光刻机的核心技术，这意味着很早就将目光锁定到了EUV光刻机上。
技术总是在不断进步的，都是从研发到应用逐步过渡的。我国要造高端芯片，还需要高端光刻胶。光刻胶我国虽有突破，但目前主要依赖进口。而我国西湖大学正在研究一项技术，用冰替代光刻胶，就是“冰刻”技术。
西湖大学可能不知名，但并不简单，它是由前清华大学副校长施一公教授、中国科学院院士潘建伟教授等筹建，目的是要建成中国人自己的“麻省理工”。现在研究的“冰刻”技术，全球只有西湖大学和丹麦一个研究团队在研究。
研究团队将光刻胶换成了冰，给这层冰起名“冰胶”，给冰胶参与的电子束光刻技术起名“冰刻”。“冰刻” 技术，通俗的讲，就是把冰刻成想要的结构和形状，并以此为模具实现其他材料结构的制作。西湖大学在2018年就已经开发了这套“冰刻”系统，现在是全新的“冰刻”2.0，一体化、自动化的微米冰刻系统已经具备了雏形。
第三：哈工大金刚石芯片新突破
冰刻相对于光刻胶，使整个制作过程简便了许多，耗时也相应减少。但应用于实际还需要时间，不过这也是基础研究之一。任正非就曾多次说过，我要重视基础研究，只有长期重视，才会有工业的强大，华为现在就非常重视基础研究。
下面要说的这个金刚石芯片突破，也是基础研究之一。大家知道，随着摩尔定律即将到达极限，寻找硅材料替代品的步伐越来越迫切。因此，以金刚石、碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）等为主的第三代半导体材料逐渐进入大众的视野。
其中，金刚石凭借其特有的性质备受关注，甚至被业界称为“终极半导体材料”。近日，哈尔滨工业大学的韩杰才院士团队，联合香港城市大学、麻省理工学院等单位，在金刚石单晶领域取得重大科研突破，该成果已发表于国际著名学术期刊《科学》。
据报道，这次研究首次通过纳米力学新方法，从根本上改变金刚石的能带结构，为实现下一代金刚石基微电子芯片提供了一种全新的方法。金刚石制作的芯片也比硅芯片更强、更耐抗，但目前还无法在电子工业方面得到应用。
以上的这些成果均属于前沿的尖端科技，可以说是直接打破了荷兰学者的偏见。对于此番言论，我们也不必太在意，在我们的发展过程中，总会遇到西方的阻挠，然而，我们的5G、航天、高铁、量子通讯、超级计算机等尖端科技，还不是照样走在了世界的前列。我们在半导体领域确实有短板，但只要我们合力攻坚，终会突破！