自从芯片战争开始之后,每一位华人最关心的消息就是,中国到底什么时候才能够建造出来,级的极紫外光EUV光刻机,我们都知道这一项技术,被荷兰的ASML公司独自垄断,美国掌控了这一家公司的最大投资,所以说间接地美国也就能够决定,全球任何一家科技企业的生死存亡,没有了光刻机和芯片的来源,那么就等同于一切都无法进步。

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芯片制造过程共分为7大生产区域,分别是扩散光刻刻蚀,离子注入、薄膜生长抛光和金属化,光刻就是把芯片所需要的线路和功能区做出来,相当于投影仪,只不过投的不是照片或者视频,而是电路图和电子源,光线就相当于是雕刻刀。

而我国在光刻机的领域中,历经多年的磨难终于到了14纳米的阶段,可是仅凭借这样的技术,在国际上面是没有丝毫的话语权的,许多人都表示既然知道半导体领域是短板,为什么不早点的发现并且制造?

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其实在好几年之前,我国就已经开始针对半导体与集成电路,开展了一系列的研究,只不过随着华为的这一件事情发生,这些研究才被搬到了台面上来,未来光刻机技术,我国势必能够占据一席之地。你们怎么看这件事情?欢迎在评论区留言讨论!

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