11月17日消息,韩国本土企业在EUV光刻技术上取得了很大进展,“本土企业”其实是韩国整个半导体行业。长期以来,EUV光刻技术一直被台积电和ASML所掌控,如果要制造7nm以上的芯片,则需要购买这两家公司的设备。全球电子企业都在积极研究光刻机技术,韩国现在打响了反击第一枪,这也重创了荷兰光刻机行业。据悉,美国鹰派高官认为韩国EUV光刻技术的突破与华为的合作有关。

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这次,韩国媒体报道称,本土公司在EUV光刻技术上获得了突破,其核心研究部门很可能是三星公司。三星这几年一直进行积极的研究和开发,他们希望保持技术领先。有知情人士表示,最近三星开始将5nm EUV光刻技术使用到智能手机的应用处理器中。

美国鹰派高层担心,三星和华为很可能会联手,从而与台积电和ASML形成对峙。最近,华为也在大力发展其光刻机生产线。将来,华为将形成一条从设计、测试、包装到芯片生产的产业链。三星进行了首次反击,此举对荷兰的ASML构成了巨大威胁。尽管研发的成本很高,但一旦能够成功开发,三星将获得更大的市场。

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美国一直在打压华为,华为必须加大研发力度,以免受到核心技术的束缚。专家表示,如果华为和三星能够合作,未来光刻机市场的发展将非常广阔。但是,尽管三星是一家韩国公司,但美国也持有三星很大一部分股份。因此,三星的举动可能会被美国相关政策影响。