近年来自主研制、自主创新的的呼声尤为高涨，而引起这个现象的主要原因就是因为科技界近两年来并不“太平”。我国的科技在不断的完成腾飞，但是我们都清楚，国内的半导体领域发家是比较晚的，因此在这个领域我们还要很大的上升空间。
国内半导体的短板
芯片已经成为了一个热议的话题，近期以来谈及芯片的话题，越来越显得沉重了，我们比任何时候都迫切希望解决芯片“卡脖子”的问题。芯片对于智能设备来说犹如“心脏”一般存在，我国也是芯片进口大国，但是芯片的自给率却非常的低，仅仅只达到了30%，这也意味着国内芯片还不能完全的国产化。
华为是中国企业的骄傲，华为的发展有目共睹，华为的5G技术已经领跑在了世界的前沿，全球5G专利获得最多数量的就是华为，不单如此，在系统领域、在半导体领域华为都已经取得了重大的突破，华为不单单是一家手机通讯厂商，当然即便是作为手机通讯厂商，华为的手机销量也已经进入了前茅。
但是如果华为失去了高端的芯片，那么对华为来说是个不小的打击，华为的手机业务就会受到冲击力，虽然华为已经囤积了大量的高端芯片，如果芯片处境一直处于，只有出的量，却没有进的量，那么即便是再庞大的库存也有用完的一天。
芯片国产化成为了唯一的出路，华为也表示了将全面扎根半导体领域，在前段时间，华为公开招募光刻机工程师的举动，成为了热议。芯片主要分为三大环节，芯片设计、芯片制造、芯片封装。芯片制造是我国最大的短板，芯片制造始终绕不开光刻机，全球能够生产高端光刻机被荷兰ASML所垄断。
要知道光刻机是集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、精密仪器、机械、图像识别等等众多高端技术。光刻机并不是一台简单的设备，一台高端的光刻机，这里面汇聚了顶尖的科技技术。因此华为要自研光刻机，这确实很难，并且需要时间。
国产光刻机再次“破冰”
芯片想要达到国产化，那么解决光刻机这个难题是必然的。就在近日，国内科技界传来一个好消息，就是关于光刻机的。国产22nm光刻机已经取得了重大的突破。有关的消息透露，国产光刻机再次“破冰”，国内芯片领域已经成功研发出22nm光刻机，这一成功的背后，是多少科研人员在背后的默默付出，终于迎来成功，这也助力了中国芯片的诞生。
国内并不是缺光刻机，而是高端的光刻机，光刻机的好坏将直接影响着芯片。我国早就已经向荷兰订购了EUV光刻机，然而因为某些因素，直到今日，这台高端的光刻机还不见其踪影。也就是说，即便是有钱也已经购不来光刻机。
虽然要打造一台高端的光刻机很难，但是科研人员并没有为此而退缩，而是迎难而上。艰辛的背后终于也迎来了光刻机技术取得新的突破，目前的光刻机与荷兰的光刻机还存在着一定的距离，要想取得全面的胜利，我们还有很大的上升空间，但是一口不能吃成一个大胖子，每一次的进步都表明我们距离成功又缩短了距离。
光刻机取得了重大的突破从另一方面来看，中国芯片开始突围。随着科技界不断的进步，也许有一天，我们可以跟荷兰光刻机说再见了。
写在最后
有时候我们应该感谢对手，他就像一面镜子一样，照出我们身上的不足之处。一味的限制措施，反而激发起了国人的斗志，国内的半导体目前所面临的处境，或许是一次不错的机遇，这将极大的助力中国半导体的发展。
已经有不少企业，纷纷表示将进军半导体领域，助力国产芯片的发展，华为作为一家科技企业，也起着带头的作用。前段时间，华为的动作不断，华为“南泥湾”计划，招募“天才少年”等等，均表示华为已经在行动了。
国家也开始助力半导体领域的发展，国家制定了一个宏伟的计划，在2025年芯片的自给率达到90%，从目前的30%，五年的时间达到90%，这确实是个挑战，但是有了众多力量的加持，这一天并不会太晚。