中国能造出5nm光刻机吗？荷兰ASML：给你图纸都没办法复制
光刻机一直被誉为“人类工业皇冠上的明珠”，这句话也不是没有道理可言。曾在网络上有人提出了一个这样的问题，制造光刻机和氢弹哪一个更难搞？最终答案是光刻机更难。也有人表示质疑和反对，他们表示中国在一穷二白的年代都能搞出人造卫星和氢弹，为什么在科技发达的2020年搞不出光刻机呢？
首先我们要明白氢弹和光刻机在本质上是有区别的，氢弹举全国之力只要搞出来就行，根本不需要考虑制造成本和市场需求，而光刻机属于民用领域产品，涉及到了众多的产业链和市场需求。我们拿一台极紫光EUV光刻机举例子，这台光刻机光配件数量就高达10万个，靠一个国家的技术储备力量是根本完成不了，必须吸纳世界各国的顶尖技术才能搞定，其中包括：德国的机械工艺、美国控制软件、日本的光刻胶、瑞典的工业精密机床等等。
目前华为芯片的生产，必须依赖光刻机纳米级的加工精度，华为麒麟1020芯片采用的是5nm制作工程，也就是说每平方毫米就有1.7亿个晶体管，这样的精度对目前的华为是无法完成的挑战，但在今后谁也说不准。
目前世界上能制造光刻机的企业，只有荷兰的ASML这一家而已，但为什么荷兰这样的一个小国家可以制造出如此高端的产品呢？最重要的一点就在于它敢赌。荷兰ASML公司在成立之初，由于不被母公司飞利浦重视和扶持，导致其员工的工作环境十分恶劣，简单的板房工作，办公门口堆满了垃圾桶，但就在如此恶劣的环境中，ASML公司坚持了十几年之久。当年世界各国关于光刻机的研发出现了一个难题，那就是无法突破65nm的芯片制造工艺，ASML公司为了能够摆脱现有的困局，就决定放手一搏摆脱现有的技术，把命运和家底押在了浸润式光刻机身上。
ASML受到台湾工程师林本坚的启迪，采用水为介质制造浸润式光刻机，用时三年终于获得了成功，ASML公司的市场占有率从25%攀升到了80%，如今芯片厂商所用的高端光刻机99%都是其生产。目前中国把目标定在了2025年造出5nm光刻机，但荷兰ASML却表示：给你图纸你都无法复制！难道中国真的没办法在2025年完成这个目标吗？
首先要清楚中国制造高端光刻机最严重的两个问题，一个是人才缺失，另一个就是技术封锁。目前中国光刻机的领军者是上海微电子，已经实现了90nm制程身紫外光刻机的量产，预计在明年28nm工艺光刻机就可以研发成功，虽然和5nm光刻机还有差距，但也距离不算很大了，相信我国在2025年肯定能制造出5nm光刻机让世界惊叹，换句话来讲，ASML真敢把图纸给如今科技发达的中国吗？大家对此有什么看法呢？欢迎在下方留言评论，本文原创，禁止抄袭，侵权必究。