公开数据整理显示，预计2020年全球半导体设备市场规模达到526.9亿美元。在半导体设备中，光刻机因为技术门槛高，且处于半导体领域顶端，所以在半导体整个产业链中占据了重要的地位。
目前，全球高端光刻机市场主要被荷兰的ASML、日本的尼康和佳能占据。这三家厂家尤其是ASML，几乎握住了全球各大半导体企业的命脉。
那经过这么多年发展，我国有没有光刻机厂家？
答案是有的，比如有“光刻机第一股”之称的华卓精科，以及今天要给大家介绍的上海微电子。
资料显示，上海微电子(简称SMEE)始创于2002年，主要致力于半导体装备、泛半导体装备和高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。产品被广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板等制造领域。
芯思想研究院（ChipInsights）的2020年最新数据表明，去年上海微电子出货预估在50+台，基本和前一年持平。而且出货的光刻机主要集中在先进封装、LED、FPD领域。
此外，上海微电子占据全球光刻低端市场40%的份额，国内市占率更是高达80%（注意，这两个数据笔者没有找到相对可靠的来源，存疑）。如果这一数据得到进一步验证，那么上海微电子无疑是国内第一的光刻机巨头。
时间回到18年前，上海微电子刚刚成立的时候，全球高端光科技市场基本被ASML垄断，再加上该领域门槛很高。要是门槛不高，也不至于全球光刻机厂商就那么几家。
因此，上海微电子要想发展起来，打破海外的技术封锁，是一件非常困难的事。事实上也是如此，公司整整用了7年时间才将首台先进封装光刻机产品SSB500/10A交付给用户。
在之后的发展过程中，该公司继续埋头苦干，继续研发产品。截止目前，其拥有SSX600系列、SSB500系列、SSB300系列、SSB200系列四个系列的光刻机产品，主要用以IC前道制造、IC后道先进封装、TFT曝光、LED制造等。
更重要的是，经过18年的辛苦研发，上海微电子直接持有各类专利及专利申请超3200项，这些专利设计光刻机、激光与检测、特殊应用类等各大产品技术领域。
众所周知，在高科技商业应用领域，谁拥有更多的专利谁就有更大的话语权，在光刻机行业尤为如此。而掌握的众多专利的上海微电子，其发展前景是相当可观的。凭借这样的实力，其成功入选《寻找中国制造隐形冠军（上海卷）》。
今年6月份，上海微电子宣布将在2021年-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。而这是其跨越好几代技术，从90nm工艺直接突破到28nm工艺。这样的跨越式发展是值得称赞的。
不过，ASML目前的工艺已经达到7nm甚至是5nm。与之相比还有很大的差距，上海微电子还有很长的路要走。
笔者认为，在当前局势下，上海微电子等国产光刻机巨头身上的担子很重，只有在光刻机制程上赶上先进水平，我国在半导体领域才更有话语权，而不会像现在这样被人拿捏。因此，无论是上海微电子还是华卓精科，它们的未来都值得去期待。