现代科技的发展不仅给人类社会带来了很多方便，同时也给人们带下来了更多的难题，因为是高精尖技术的一些发展领域，所以关于它的突破是需要更长时间的，我国在这样的发展过程当中完全不可以依靠外界力量的，只能依靠着科研人员的不断努力和费心尽力的研。
这样的一些突破过程就更加的困难，在现代这个信息化的时代当中，电子信息技术是非常普遍的，因此芯片的研制就成了需要突破的领域，而在现在在芯片制造的一些材料上，也开始逐渐实现了突破。
今天要说的这种制造材料尖端的突破就是关于光刻胶，光刻胶是一种多种成分组成的敏感感光液体，主要用于制造芯片硅板上电路的印刻。听到前面的介绍大家可能知道了光刻胶是用于制造芯片的一个东西。
其实除开这些之外光刻胶的质量对于芯片的影响也有着很大的影响，毕竟它是制造东西的一个材料，如果光刻胶出了什么差错的话，那么制造出来的芯片也不一定会有一些什么样的问题，为了在这方面取得突破各个科研人员都付出了特别大的努力。
因为在此之前全国就只有美国，日本和韩国这三的国家掌握了这一项技术，想要在这方面有着一些突破性的进展发展就只能依靠自己，为了不受制于其他国家我国也想要在这方面有着相应实力。
但是由于现代社会的发展，我国在这些技术的突破上也在更新着人们的一些固有思想。北京科华递交的极紫外光刻机的光刻胶研发项目已经通过验收。目前的研制实力是比较强的，除了第五代光刻机EUV极紫外光刻机的光刻胶尚未实现出口，我国现在的发展实力也具备国产自足的能力，更有信息表示国产的替代计划将会全面的开启。
这样的一种研制能力是非常让其他国家羡慕的，毕竟在一个垄断的环境之下还要能够研制出这一项技术是非常不容易的，而在这当中，科研人员需要攻克的一些难点就越发的多，除开这些之外，在相关领域的发展是需要努力的，之后的成就也会越来越多。
好了，今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！