ASML光刻机在中国市场发展，2个缺点注定没有前景

在2020年，ASML光刻机倍受关注，成为国内半导体产业之痛。由于没有高端光刻机，中芯国际，华虹半导体等公司，想要在技术上突破7nm芯片，变得非常难。如果论行业前景，ASML光刻机在中国市场发展，有两个技术难点是致命的，注定了不会长久。

第一、用水、用电量大。台积电作为台湾企业，每年消耗的电费就达到了当地10%以上，而费水问题一直存在。台积电芯片生产中，耗电第一大户便是ASML公司生产的光刻机，对自然环境保护不和，属于高耗能设备。

第二、增加了半导体生产流程。ASML光刻机不仅耗电、费水不环保，其糟糕的流程工艺也是一个弊端。如果进行芯片直写，而不是用ASML进行印刷，再写入，那么将会大大降低半导体工艺流程，降低生产成本。

ASML光刻机有优点，比如精度高，可以减少工艺研发难度，但是缺点也显而易见。由于ASML非常耗水耗电，且有增加了生产制造的流程和成本，未来用新工艺、新生产设备将其取代，将是国内半导体企业发展的一个重要目标。