国产光刻机突破22纳米!还存在一定差距,依然值得我们骄傲

subtitle 阿瑞梦视野 10-23 12:46 跟贴 10 条

随着我国科技的发展,在不少领域已经反超世界各国,居于领先的位置。众所周知,我们国家科研发展起步是比较快的,因此实现弯道超车,是值得我们高兴的事情。然而我们国家其实对于一些高精尖技术,仍旧无法完美的突破,为什么人家外国人就能够研制出来呢?毕竟那是人家几十年的考研经验积累下来的,而我们国家所花费的时间,跟人家是没有可比性的。

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还有一个原因就是,有的发达国家经常对我们国家实施技术上的封锁,因此也就迟迟无法完美突破。就比如光刻机,其实国产的光刻机已经达到了22纳米,距离荷兰的光刻机技术差距还是非常大的,不过已经值得我们骄傲了,这是为什么呢?一起了解一下吧。

我们都知道,即使在西方各国对我们进行技术封锁的时候,仍旧有科技企业突破天际,那就是华为5G,华为5G以及其芯片可以说技术是非常之高,这也是为什么美国会眼红了。而我们国家的芯片技术其实也是有所突破,在全世界闻名的北斗卫星导航系统中,其所用到的3号芯片已经突破了22纳米的上限。而上海微电子也是经过长时间的辛苦专研,研制出了能够生产22纳米的光刻机。这一个个成就,足以让我们感到骄傲。

不过就有不知情的小伙伴感到好奇,22纳米距离顶尖的光刻机技术,差距还是很大的,如何才能达到高精尖的水平呢?其实答案可想而知,我们国家对于光刻机高精尖的技术,一直都是处于比较落后的状态。而22纳米,则可以认为是里程碑式的进步。就像第一个登上月球的人,能够迈出第一步已经很不容易了,何必急于求成,渴望他在月球上打滚呢?

其实在上海微电子突破22纳米之前,国产的光刻机一直保持在制造90纳米的技术,从“90”到“22”,可想而知其中的艰辛。足够可以称为是里程碑式的进步。相信在突破关键领域之后,高阶光刻机技术的研发速度更是会越来越快。

这也表示着属于我们国产的“中国芯”正在崛起!与此同时,西方发达国家研制出的硅基芯片,在物理方面已经达到了极限,也就是说他们的技术已经达到了“天花板”,已经很难再继续突破了。这也证明着中国芯达到世界领先水平,也是指日可待。

并且如果我国如果对“碳基芯片”研制成功,就可以直接不再需要光刻机技术,也就瞬间打破所有国家对我们国家,造成的技术封锁。希望这一天能够早日到来。所以这一进步值得我们感到骄傲。对此,你有何看法呢?欢迎在下方点赞转发,以及留言评论哦!我们下期文章再见!

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