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集体入场
在光刻机技术领域，我国是存在缺陷的。外国的企业已经能够实现EUV光刻机技术，而我们还需要在28nm光刻机设备上进行攻克。华为芯片暴露出来的问题，值得国内半导体企业去反思。
当一个企业做到行业内领先，并且独立发展的时候，就要受到限制。要是这样的话，国产企业还有几个愿意去做高端科技。对此，中科院官宣要布局光刻机，集合全院的力量去攻克，只有这样，才能从根源上解决问题。
原以为就只有中科院入局，没想到继中科院官宣之后，国内四大部门集体入场。9月23日，国内科技部、工信部、财政部、发改委联合发布有关文件，要求加快基础材料，关键芯片以及高端元器件等等领域布局。
如今定下了目标，不只是光刻机，还有芯片的材料、技术、元器件等等，都要全面攻克。这正是我们所期待的，团结一心，众志成城，没有克服不了的难题。
为了实现这个目标，我们已经全力加速，人才、政策、市场、投资等等都进行了布局。
集体入场也意味着不再是华为独自面对的事情，华为是替国产科技挡在前面，现在后援力量已经在路上了，所以华为转机出现了吗？
华为转机出现？
华为的转机只能靠国产供应链，按照对方的规则，只要使用到他们的技术，就不能给华为提供产品供应，除非得到许可。
那只要用上自己的技术，就不用受到对方规则的束缚了。所以把国产科技技术提升上去，替代对方的技术，华为转机未必不能出现。
比如芯片，华为有芯片设计能力，却没有制造能力。如今中科院要布局光刻机，意味着国产光刻机技术会迎来更大的突破。加快国产芯片制造能力，到时候就有希望给华为生产加工。
再加上这次四部门的入场，芯片技术，芯片材料等等都能得到突破。转机可能就是现在，前期难免会遇上障碍，可只要能成功，付出再大的努力都是值得的。
世界上任何一家领先的企业都有几十年的历史，华为33年、台积电33年、高通35年，苹果44年……
没有一家企业的成功，是一蹴而就，也没有一项技术的突破，是一步登天。只有脚踏实地，才能稳步向前。
总结
在中科院，国家四部门的入局下，不管多大的困难，都能得到解决。五年不行就十年，十年不行就二十年，直到成功。不仅是为了华为，也是为了给后辈创造一个良好的科技环境。
十年前落下的技术，现在重新提起来，在十年以后，回望现在，也许没有人觉得这是异想天开。光刻机、芯片、光刻胶、蚀刻机等半导体领域的重要布局，一个都不能落下。