光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
生产一台光刻机比造原子弹还难，答案是的，在我国一穷二白的时候用算盘都能造出原子弹和氢弹，把卫星送上天，现代科技发达的今天，我们造一台光刻机比原子弹还难，你要知道现在手机芯片的晶体管达到上百亿个，比如华为的5nm麒麟1020芯片，每平方毫米有1.7亿个晶体管，如果没有光刻机纳米级的精度华为芯片根本没法生产。
环顾世界能造原子弹的国家很多，但是能够生产高精度EUV光刻机的只有荷兰的一家公司，一台EUV光刻机需要10万个配件，集结了世界顶级科技，只靠一家公司是无法完成的，还有芯片技术是复杂的，光刻机只是其中一环还需要上下游产业链的支持。
作为科技霸主的美国为什么不能生产光刻机，而是一个欧洲小国荷兰，1984年ASML（中文名称为：阿斯麦尔）成立，在成立初就遭到了日本芯片巨头尼康和佳能的双重夹击，因为不被母公司飞利浦重视，员工只能在板房里办公。一出门就能见到这个巨大的垃圾桶。
在坚持了十来年之后命运之神突然眷顾了这家公司，当时的光刻机市场出现了瓶颈65nm制造工艺迟迟无法通过，当时芯片的发展受阻，阿斯麦抓住机遇，押注中国台湾工程师：林本坚提出的。
以水为介质可以制造浸润式光科技，最高可以生产45nm以下的芯片，通过三年的技术攻关，浸润式光刻机大获成功，这个大胆的押注也让阿斯麦从市场占有率的25%上升到80%。现在全球芯片厂商高端芯片90%都是阿斯麦生产，台积电和三星每年都为此抢破了头。
美国作为芯片巨头有英特尔，AMD，高通等芯片公司，芯片的重要环节光刻机被一个小国给垄断了，美国就没有反击过吗？答案有的，而且成功了，作为世界第一的科技霸主，美国无法容忍，美国从极紫外EUV光刻机入手。
政府和业界成立了EUV联盟由英特尔，AMD，摩托罗拉，IBM等业界巨头，加上两个国家实验室，欧洲30余国也紧跟美国之后，欧美抱团，发展EUV技术，荷兰阿斯麦作为掌握光刻机核心技术的企业自然成了欧美自家的小棉袄，投资了德国卡尔蔡司，收购美国Cymer光源，集成世界顶尖科技使得阿斯麦在EUV光刻机的垄断地位，美国顺势而为同意阿斯麦在美国建立工厂和研发中心，以此满足美国芯片公司的产能和需求，EUV光刻机是顶尖科技的结合。已经达到了给你图纸也无法复制的地步。